>> 申萬宏源-半導(dǎo)體行業(yè)：先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)有望加速，事件催化下關(guān)注半導(dǎo)體設(shè)備機(jī)會(huì)-240329
| 上傳日期： |
2024/3/30 |
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| 751KB |
| 格式： |
pdf 共3頁 |
來源： |
申萬宏源 |
| 評(píng)級(jí)： |
看好 |
作者： |
李天奇,楊海晏 |
| 下載權(quán)限： |
此報(bào)告為加密報(bào)告 |
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本期投資提示：
事件一：根據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局，華為技術(shù)有限公司申請(qǐng)的發(fā)明名稱為“自對(duì)準(zhǔn)四重圖案化半導(dǎo)體裝置的制作方法以及半導(dǎo)體裝置”專利于2024年3月22日公開展示。
這項(xiàng)發(fā)明專利是SAQP技術(shù)的改進(jìn)優(yōu)化，以提高電路圖案設(shè)計(jì)的密度和自由度。晶圓廠使用DUV光刻機(jī)生產(chǎn)先進(jìn)制程（28nm以下）芯片時(shí)，廣泛采用多重圖案曝光工藝來實(shí)現(xiàn)對(duì)電路線寬（制程）的縮小。多重圖案曝光工藝中，SAQP（多重自對(duì)準(zhǔn)四重圖案）是相對(duì)先進(jìn)而常見的一項(xiàng)技術(shù)，但現(xiàn)有技術(shù)中，間隔物的形成尺寸都比較固定導(dǎo)致制程無法進(jìn)一步縮小，這項(xiàng)發(fā)明專利通過增加光刻步驟等方式改進(jìn)了SAQP技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)電路圖案設(shè)計(jì)密度的提升（芯片制程的縮小）。
這項(xiàng)發(fā)明2021年9月申請(qǐng)專利、2023年3月申請(qǐng)公開。根據(jù)專利信息，這項(xiàng)發(fā)明早在2021年9月1日即被提交給國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局，2023年3月9日華為即提交專利公開申請(qǐng)，我們推斷這或許反映芯片制造工藝技術(shù)有進(jìn)一步迭代，使用DUV光刻機(jī)進(jìn)行更小制程的芯片生產(chǎn)的進(jìn)程可能不斷加速。
事件二：3月26日至27日荷蘭首相率代表團(tuán)訪華，我國商務(wù)部部長(zhǎng)與荷蘭外貿(mào)大臣就光刻機(jī)貿(mào)易來往和強(qiáng)化半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作等議題進(jìn)行交流。
荷蘭首相近5年首度訪華，得到多位國家領(lǐng)導(dǎo)人會(huì)見。荷蘭首相上次訪華為2019年，此次訪華得到了國家主席、國務(wù)院總理等多位領(lǐng)導(dǎo)人的會(huì)見，荷蘭首相表示“脫鉤斷鏈”不是荷蘭政府的政策選項(xiàng)，珍視同中國的友好關(guān)系，愿同中方持續(xù)深化伙伴關(guān)系，反映中荷關(guān)系乃至中歐關(guān)系向好趨勢(shì)。
我國商務(wù)部部長(zhǎng)與荷蘭外貿(mào)大臣關(guān)于光刻機(jī)深入交換意見。我國商務(wù)部部長(zhǎng)表示希望荷蘭支持企業(yè)履行合同義務(wù)、確保光刻機(jī)貿(mào)易正常進(jìn)行；荷蘭外貿(mào)大臣表示荷蘭以貿(mào)易立國，主張自由貿(mào)易，荷蘭的出口管制不針對(duì)任何國家、所做決定基于獨(dú)立自主評(píng)估，并在安全可控前提下盡可能降低對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈的影響。
綜合而言，預(yù)計(jì)國內(nèi)技術(shù)研發(fā)進(jìn)展與國際環(huán)境優(yōu)化相伴相生，國內(nèi)晶圓廠先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏有望提速。AI芯片、消費(fèi)電子對(duì)先進(jìn)制程需求旺盛，國內(nèi)晶圓廠先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)空間巨大，核心設(shè)備的取得、晶圓廠制造工藝的進(jìn)步，是影響擴(kuò)產(chǎn)速度的最關(guān)鍵因素。伴隨上述兩項(xiàng)事件，光刻機(jī)貿(mào)易、國內(nèi)技術(shù)進(jìn)步都可以更加樂觀，預(yù)計(jì)國內(nèi)晶圓廠先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏未來幾年有望超市場(chǎng)預(yù)期。
投資分析意見：國內(nèi)晶圓廠先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)，自主可控趨勢(shì)下國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備最受益。重點(diǎn)關(guān)注各細(xì)分領(lǐng)域市占率及技術(shù)水平相對(duì)占優(yōu)半導(dǎo)體設(shè)備公司：北方華創(chuàng)（薄膜沉積、刻蝕、熱處理、清洗設(shè)備等），中微公司（刻蝕、薄膜沉積設(shè)備等），芯源微（涂膠顯影、清洗設(shè)備等），拓荊科技（薄膜沉積、鍵合設(shè)備等），中科飛測(cè)、精測(cè)電子（前道檢測(cè)量測(cè)設(shè)備）。
風(fēng)險(xiǎn)提示：國內(nèi)設(shè)備廠商研發(fā)進(jìn)程不及預(yù)期；國內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)進(jìn)度不及預(yù)期。
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