>> 方正證券-華海清科(688120)公司點評報告:夯實CMP主業(yè)工藝覆蓋,減薄與劃切等打開新增長極-240816
| 上傳日期: |
2024/8/17 |
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| 633KB |
| 格式: |
pdf 共4頁 |
來源: |
方正證券 |
| 評級: |
強烈推薦 |
作者: |
劉嘉元,鄭震湘,李魯靖 |
| 下載權限: |
此報告為加密報告 |
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華海清科發(fā)布2024年半年度報告。公司24H1實現營收14.97億元,同比+21.23%;歸母凈利潤4.33億元,同比+15.65%;扣非歸母凈利潤3.68億元,同比+19.77%。公司24Q2單季度實現營收8.16億元,同比+32.03%,環(huán)比+20.00%;歸母凈利潤2.31億元,同比+27.89%,環(huán)比+14.03%;扣非歸母凈利潤1.97億元,同比+40.01%,環(huán)比+14.42%,我們認為公司營收業(yè)績持續(xù)提升主要系隨著下游晶圓廠擴產,公司CMP設備工藝覆蓋及市占率不斷提升,新設備以及服務業(yè)務進展順利。截至24H1,公司存貨為30.80億元,較Q1末上升3.48億元,合同負債為13.42億元,較Q1末上升1.18億元,公司積極備貨,在手訂單飽滿。 CMP設備工藝覆蓋度持續(xù)完善,市占率穩(wěn)步提升。華海清科12英寸CMP設備涵蓋14nm至130nm制程,可拋光材料覆蓋金屬與非金屬層,公司不斷推出滿足更多材質工藝和更先進制程要求的新功能、新模塊和新產品,持續(xù)推進面向更高性能、更先進節(jié)點的CMP裝備開發(fā)及工藝突破,市場占有率持續(xù)提升。截至24H1,公司全新的拋光系統架構CMP機臺Universal H300已實現小批量出貨,客戶端驗證順利;面向第三代半導體的新機型正在進行客戶需求對接,預計2024年下半年發(fā)往客戶驗證。 先進封裝驅動減薄與劃切設備需求旺盛,打開又一增長極。根據DISCO,24FYQ1按照發(fā)出口徑,DISCO劃切機收入同比+75%,環(huán)比+8%,占比36%,其中,IC用占劃切機收入比例67%,同比+29pcts,環(huán)比+6pcts,收入同比+210%,環(huán)比+20%;減薄機收入同比+37%,環(huán)比-1%,占比26%,其中,DGP(用于晶圓減?。┦杖胪?132%,環(huán)比+35%,IC用占整體減薄機比例為60%,同比+28pcts,環(huán)比+8pcts,收入同比+160%,環(huán)比+14%。3DIC、先進封裝趨勢下,減薄機與劃切機需求旺盛。 華海清科在減薄設備領域推出GP300,對標DISCO高端機型,已取得多個領域頭部企業(yè)的批量訂單,獲得客戶的高度認可,面向后道的GM300已發(fā)往國內頭部封測企業(yè)進行驗證;劃切機方面,兩片wafer堆疊需要減薄較多,邊緣有崩片的風險,需要先對晶圓邊緣做切割,工藝需求明確,目前華海清科產品已發(fā)往多家客戶進行驗證。我們認為公司基于CMP設備的技術積累,在國產減薄、劃切設備等進展領先,有望實現市場份額加速提升。 服務業(yè)務隨裝機量提升規(guī)模進一步擴大,量檢測設備拓寬公司產品布局。 1)服務:關鍵耗材與維保方面,華海清科披露公司第500臺12英寸化學機械拋光(CMP)裝備出機,公司7分區(qū)拋光頭擁有自主產權,該業(yè)務具有排他性,我們認為隨著公司設備保有量的提升,維保業(yè)務有望持續(xù)增長;晶圓再生業(yè)務方面,公司通過采用先進的CMP研磨方式,大幅提升再生晶圓的循環(huán)使用次數,獲得多家大生產線批量訂單并長期穩(wěn)定供貨,并積極擴產;2)其他設備:公司膜厚測量裝備已取得某集成電路制造龍頭企業(yè)的批量重復訂單;清洗設備及供液系統進展符合預期。 盈利預測及投資建議:我們看好公司在CMP設備繼續(xù)保持優(yōu)勢,減薄&劃切設備有望打開新增長極,并在設備保有量持續(xù)提升的情況下實現維保與耗材業(yè)務收入的增長,裝備+服務雙輪驅動成長。我們預計公司2024-2026年分別實現營業(yè)收入37.17/50.94/61.13億元,同比增長48%/37%/20%,實現歸母凈利潤10.85/14.15/17.63億元,同比增長50%/30%/25%,維持“強烈推薦”評級。 風險提示:新技術、新產品研發(fā)進展不及預期,全球貿易紛爭影響,行業(yè)競爭加劇。
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