>> 方正證券-北方華創(chuàng)(002371)存儲產(chǎn)線設備國產(chǎn)化助力公司高成長-190423
| 上傳日期： |
2019/4/24 |
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pdf 共7頁 |
來源： |
方正證券 |
| 評級： |
推薦 |
作者： |
蘭飛，賀茂飛 |
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點評：
1）年報業(yè)績符合預期，IC 設備驅(qū)動公司業(yè)績高成長。公司業(yè)績 2.34 億元，落在前期指引 2.13-2.76 的區(qū)間中值附近。公司 18Q4 業(yè)績靚麗，單季度收入同比增長 82%，創(chuàng)下上市以來的最高單季增速。長江存儲在 2018 年下半年進入大規(guī)模擴線階段，帶動國內(nèi) IC 設備產(chǎn)業(yè)進入高成長期。從微觀角度來看，北方華創(chuàng)中部及東南部收入增長 6 億余元，長江存儲、華虹、中芯等客戶訂單為主要增長引擎。
2）毛利率比去年同期增加 3.5%，IC 設備業(yè)務規(guī)模紅利顯現(xiàn)。公司 18Q4 毛利率為 35.1%，相比去年同期增加 3.5%。IC 設備行業(yè)是高研發(fā)投入、高利潤率的行業(yè)。IC 設備領域全球龍頭廠商毛利率在 45%左右，北方華創(chuàng)的盈利能力距離海外的行業(yè)領軍企業(yè)有一定差距。盈利能力差距的核心原因之一是規(guī)模效應。隨著公司同一品類設備的上量，毛利率有望持續(xù)穩(wěn)步上升。
3）19-21 年是國內(nèi)建廠高峰期，公司持續(xù)高成長無虞。19-21年是國內(nèi)晶圓廠建廠潮高峰期，疊加晶圓廠的 IC 設備本土化需求，國產(chǎn) IC 設備廠商迎來前所未有的黃金發(fā)展期。北方華創(chuàng)是國內(nèi) IC 設備品類最廣的公司，PVD、爐管等設備與國外的差距已經(jīng)進入大規(guī)模成熟應用階段，刻蝕設備、清洗機的應用面亦在持續(xù)擴張。豐富的產(chǎn)品線為北方華創(chuàng)階梯式的穩(wěn)步孕育了基礎，隨著各個細分產(chǎn)品漸次進入成熟階段，公司具備持續(xù)高成長的能力。
4）北方華創(chuàng)產(chǎn)品線占據(jù)刻蝕、薄膜生長兩大主賽道，賽道愈來愈寬。總的來說，北方華創(chuàng)的 IC 設備產(chǎn)品可歸類為四個大類，一是刻蝕、二是薄膜生產(chǎn)、三是濕制程、四是擴散。在這四個領域，北方華創(chuàng)為客戶提供對應的設備及工藝解決方案。
刻蝕方面，公司在 STI 刻蝕方面已經(jīng)能夠滿足客戶的需求，應用在 Logic、CIS、Nor Flash 等芯片的大生產(chǎn)線上。公司在 Al Pad PVD 方面優(yōu)勢明顯，北方華創(chuàng)的 PVD 設備在 14納米產(chǎn)線能夠完全匹配客戶 baseline 的需求。在 28 納米以下工藝，一般采用PVD沉積TiN做硬掩膜的方式來實現(xiàn)刻蝕。北方華創(chuàng)的刻蝕設備下游應用廣泛，在 IC 產(chǎn)線以外，公司積極拓展平板顯示、MEMS 傳感器、IGBT、Mosfet 等領域的應用。豐富的應用經(jīng)驗持續(xù)提升公司刻蝕產(chǎn)品線品質(zhì)。以 IGBT的刻蝕為例，器件結(jié)構(gòu)存在大量 U 型或 V 型的形貌，產(chǎn)線對刻蝕設備的形貌精確度要求極高，公司產(chǎn)品在這一高難度領域的突破為公司拓展其他應用領域奠定了基礎。
薄膜生長方面，公司產(chǎn)品線適用于邏輯芯片制造、DRAM芯片制造、Nand Flash 芯片制造三大領域。公司研發(fā)的十腔室薄膜沉積平臺具有穩(wěn)定出色的工藝表現(xiàn)，是至今最大的金屬化工藝平臺，深受客戶認可。
濕制程工藝方面，公司具有單片清洗機及漕式清洗機，在各類清洗工藝環(huán)節(jié)具有非常出色的性能表現(xiàn)。
擴散制程工藝方面，公司的氧化擴散設備在可靠性、可用時間具有強勁的競爭力。
5）再次強調(diào)公司產(chǎn)品線在 3D Nand 趨勢下的賽道拓寬邏輯。在摩爾定律及 3D Nand 兩大技術(shù)趨勢下，公司產(chǎn)品在單條產(chǎn)線的投資額占比不斷上升。在 14 納米及以下的先進制程工藝中，刻蝕、薄膜生長工序數(shù)量大幅上升，設備采購占比同比攀升。存儲應用方面，隨著存儲器芯片技術(shù)路線從2D NAND 轉(zhuǎn)到 3D NAND，刻蝕、薄膜設備在單條產(chǎn)線采購占比從 30%上升到 75%。
6）晶圓廠建設潮下終端客戶對北方華創(chuàng)設備的總需求超3000 億元
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