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投資要點(diǎn)：
　　公告：2024中報(bào)營收6.94億元，yoy -0.29%，歸母凈利潤7613.88萬元，yoy -43.88%；扣非歸母凈利潤3578萬元，yoy -65.5%。24H1研發(fā)投入1.17億元，yoy +52%。2024H1毛利率40.2%，yoy -3.2pct，歸母凈利率10.98%。
　　24Q2營收4.5億元，yoy +10.3%，環(huán)比+84%；歸母凈利潤0.6億元，yoy -13.7%。
　　據(jù)Global Market Monitor，全球前道涂膠顯影設(shè)備銷售額由2013年的14.07億美元增長到2020年19.05億美元，2022年超過25億美元；涂膠顯影設(shè)備領(lǐng)域，日本TEL一家獨(dú)大，全球市場份額接近87%，日本對(duì)6大類半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的政策已于23年7月23日實(shí)施，其中包括先進(jìn)制程領(lǐng)域涂膠顯影相關(guān)設(shè)備。芯源微作為國內(nèi)領(lǐng)先的涂膠顯影設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)，有望打破壟斷格局。2024H1，新簽訂單12.19億元，yoy +30%，在手訂單超過26億元，創(chuàng)歷史新高。
　　前道涂膠顯影設(shè)備完成28nm及以上工藝覆蓋，下一代高產(chǎn)能架構(gòu)研發(fā)順利。前道涂膠顯影設(shè)備全面覆蓋I-line、KrF、ArF dry、ArF浸沒式等多種型號(hào)，也適用包括SOC、SOH、SOD等其他旋涂類應(yīng)用。2024H1公司新一代超高產(chǎn)能架構(gòu)涂膠顯影機(jī)FTEX研發(fā)取得良好進(jìn)展，機(jī)臺(tái)采用六層對(duì)稱架構(gòu)，中間布局高效的晶圓傳輸模組作為連接樞紐，并設(shè)計(jì)高效冷盤塔連接模塊，在調(diào)度上應(yīng)用多層并行進(jìn)片回片模式，為整機(jī)產(chǎn)能提升奠定更先進(jìn)的架構(gòu)基礎(chǔ)，可匹配未來更先進(jìn)的光刻機(jī)產(chǎn)能提升需求。
　　半導(dǎo)體清洗設(shè)備：物理清洗機(jī)Baseline，化學(xué)清洗突破客戶驗(yàn)證。全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場將呈逐年增長的趨勢，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，中國大區(qū)2023年市場需求8.26億美元，占全球比重約27%。芯源微物理清洗機(jī)繼續(xù)保持行業(yè)龍頭地位，化學(xué)清洗機(jī)新品2024年初發(fā)布，據(jù)中報(bào)，機(jī)臺(tái)已在司內(nèi)完成多家主要客戶的wafer demo測試，工藝水平表現(xiàn)優(yōu)秀，獲得了下游客戶的高度認(rèn)可，公司高溫SPM機(jī)臺(tái)獲得了國內(nèi)領(lǐng)先邏輯客戶的驗(yàn)證性訂單。
　　維持盈利預(yù)測，維持“買入”評(píng)級(jí)。2024中報(bào)符合預(yù)期。維持2024-2026年歸母凈利潤預(yù)測2.88/3.73/4.40億元。2025PE為31X，維持“買入”評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏低于預(yù)期；新設(shè)備驗(yàn)證不達(dá)預(yù)期等；原材料采購周期延長風(fēng)險(xiǎn)。