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>> 東海證券-中微公司(688012)公司簡(jiǎn)評(píng)報(bào)告:產(chǎn)品放量疊加研發(fā)賦能,收入利潤(rùn)實(shí)現(xiàn)雙增-260402
上傳日期:   2026/4/3 大?。?/td>   523KB
格式:   pdf  共4頁(yè) 來(lái)源:   東海證券
評(píng)級(jí):   買入 作者:   方霽
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事件概述:根據(jù)公司發(fā)布2025年年度業(yè)績(jī)報(bào)告,公司2025年?duì)I業(yè)總收入為123.85億元(yoy+36.62%),歸母凈利潤(rùn)為21.11億元(yoy+30.69%),公司銷售毛利率為39.17%(yoy-1.89pct)。公司2025Q4營(yíng)業(yè)總收入為43.22億元(yoy+21.48%,qoq+39.33%),歸母凈利潤(rùn)為9.00億元(yoy+28.12%,qoq+78.18%),銷售毛利率為39.29%(yoy+0.02pct,qoq+1.40pct)。
  核心產(chǎn)品規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大,高端設(shè)備加速推進(jìn)。1)公司刻蝕設(shè)備2025年收入98.32億元(yoy+35.12%),占總營(yíng)收約79.4%。CCP與ICP兩大類設(shè)備覆蓋95%以上的三百余種刻蝕應(yīng)用,工藝節(jié)點(diǎn)覆蓋65nm至3nm及更先進(jìn)制程。其中,CCP設(shè)備年付運(yùn)超1000臺(tái),累計(jì)裝機(jī)突破5000臺(tái),60:1超高深寬比介質(zhì)刻蝕設(shè)備已成為國(guó)內(nèi)標(biāo)配,量產(chǎn)指標(biāo)穩(wěn)步提升,下一代90:1產(chǎn)品即將進(jìn)入市場(chǎng);ICP設(shè)備累計(jì)裝機(jī)達(dá)1800反應(yīng)臺(tái),適用于下一代邏輯和存儲(chǔ)客戶的ICP刻蝕及化學(xué)氣相刻蝕設(shè)備開發(fā)進(jìn)展順利,加工精度與重復(fù)性已達(dá)單原子水平。2)薄膜設(shè)備作為第二曲線快速增長(zhǎng),2025年LPCVD收入5.06億元,同比增長(zhǎng)224.23%,累計(jì)出貨超300反應(yīng)臺(tái),多款新型設(shè)備已獲重復(fù)性訂單。另有二十余種導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備將陸續(xù)推向市場(chǎng),可覆蓋全部先進(jìn)金屬應(yīng)用;同時(shí),硅及鍺硅外延EPI設(shè)備已進(jìn)入客戶端量產(chǎn)驗(yàn)證階段。3)MOCVD設(shè)備在氮化鎵基LED領(lǐng)域保持市場(chǎng)份額領(lǐng)先,Micro-LED設(shè)備完成頭部客戶量產(chǎn)驗(yàn)證,新型氮化鎵功率器件MOCVD設(shè)備已發(fā)往下游客戶進(jìn)行量產(chǎn)驗(yàn)證。同時(shí),AsP材料專用MOCVD設(shè)備正定制開發(fā),面向紅光LED及Mini-LED的設(shè)備已發(fā)往頭部IDM公司進(jìn)行量產(chǎn)驗(yàn)證,紅光Micro-LED、光電子材料外延等應(yīng)用也在穩(wěn)步推進(jìn)中。
  長(zhǎng)期保持高強(qiáng)度研發(fā)投入,持續(xù)提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。2025年公司研發(fā)投入達(dá)37.44億元,同比增長(zhǎng)52.65%,占總營(yíng)收30.23%,遠(yuǎn)超行業(yè)平均水平;其中研發(fā)費(fèi)用為24.75億元,同比增長(zhǎng)74.61%。目前,公司在研設(shè)備涵蓋等離子體刻蝕、薄膜沉積(LPCVD、ALD、PVD、PECVD)、外延(硅/鍺硅EPI)、光學(xué)及電子束量檢測(cè)、MOCVD以及大平板設(shè)備等領(lǐng)域,在研項(xiàng)目覆蓋6大品類、超20款新設(shè)備。同時(shí),公司研發(fā)周期已從過去的3-5年大幅縮短至2年以內(nèi),具備快速推出有競(jìng)爭(zhēng)力設(shè)備的能力,預(yù)計(jì)未來(lái)幾年將新品持續(xù)驗(yàn)證上市,進(jìn)一步擴(kuò)大市場(chǎng)份額。
  內(nèi)生外延,落地平臺(tái)化戰(zhàn)略。量檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)增長(zhǎng)速度很快,已成為占半導(dǎo)體前道設(shè)備總市場(chǎng)約13%的第四大設(shè)備門類。公司通過投資和成立子公司,全面布局了量檢測(cè)設(shè)備板塊,已規(guī)劃覆蓋多種量檢測(cè)設(shè)備產(chǎn)品。此外,公司通過擬收購(gòu)眾硅電子科技控股權(quán),從單一干法工藝延伸至“干法+濕法”整體解決方案,補(bǔ)齊濕法設(shè)備短板,增強(qiáng)為先進(jìn)制程提供系統(tǒng)級(jí)解決方案的能力。目前公司產(chǎn)品覆蓋約30%的集成電路設(shè)備,未來(lái)5年左右將通過有機(jī)生長(zhǎng)與外延擴(kuò)展,力爭(zhēng)覆蓋60%以上高端關(guān)鍵設(shè)備和70%以上先進(jìn)封裝設(shè)備,成為集成電路設(shè)備領(lǐng)域的平臺(tái)型公司。
  投資建議:公司作為聚焦高端半導(dǎo)體裝備的核心供應(yīng)商,刻蝕、薄膜沉積、MOCVD等設(shè)備持續(xù)迭代放量,同時(shí)深度受益于下游晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)張與國(guó)產(chǎn)替代趨勢(shì)的雙重機(jī)遇,長(zhǎng)期在集成電路制造領(lǐng)域穩(wěn)健發(fā)展。我們預(yù)計(jì)公司2026、2027、2028年?duì)I業(yè)收入分別為162.75、204.35和248.25億元(2026、2027年原預(yù)測(cè)值分別是156.40和197.88億元),同比增速分別為31.41%、25.56%和21.48%;預(yù)計(jì)公司2026、2027、2028年歸母凈利潤(rùn)分別為30.47、42.44和55.34億元(2026、2027年原預(yù)測(cè)值分別是32.04和43.44億元),同比增長(zhǎng)分別為44.33%、39.26%和30.41%。當(dāng)前市值對(duì)應(yīng)2026、2027、2028年的PE分別為61、44和34倍,維持“買入”評(píng)級(jí)。
  風(fēng)險(xiǎn)提示:1)產(chǎn)品研發(fā)驗(yàn)證進(jìn)展不及預(yù)期風(fēng)險(xiǎn);2)上游供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn);3)下游晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)不及預(yù)期風(fēng)險(xiǎn)。
  
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