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光刻膠是光刻工藝核心材料，2024年國內(nèi)市場有望復(fù)蘇
　　光刻膠是光刻工藝中的關(guān)鍵材料。全球光刻膠市場空間在百億美元級(jí)別，從光刻膠的下游行業(yè)市場分布情況看，半導(dǎo)體、PCB和顯示是主要應(yīng)用領(lǐng)域。在半導(dǎo)體行業(yè)中，目前光刻膠約占晶圓材料制造成本的13%。按照配套使用的光刻機(jī)類型，半導(dǎo)體光刻膠可劃分為g/I線膠、KrF膠、ArF膠、ArFi膠和EUV膠，全球市場占比分別約為16%、34%、10%、38%和2%。根據(jù)TrendBank，2023年國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠市場受集成電路行業(yè)景氣度下行影響，市場規(guī)模約34億元，同比下滑13.98%。展望2024年，在人工智能技術(shù)帶動(dòng)及周期復(fù)蘇趨勢下，半導(dǎo)體光刻膠市場有望恢復(fù)至38億元，同比增長14.01%。
　　國內(nèi)加快成熟制程擴(kuò)產(chǎn)，國產(chǎn)光刻膠進(jìn)入供應(yīng)鏈機(jī)會(huì)增加
　　2023年中國晶圓產(chǎn)能合計(jì)達(dá)658.72萬片/月，同比增長13.8%。其中12英寸產(chǎn)能占比達(dá)56.9%，主要應(yīng)用的光刻膠為ArF和KrF。此外8英寸和6英寸及以下晶圓產(chǎn)能占比分別為24.4%和18.6%，主要應(yīng)用的光刻膠為g/I線和KrF膠。受美日荷聯(lián)動(dòng)對(duì)華半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口制裁影響，中國大陸先進(jìn)制程擴(kuò)產(chǎn)受阻。國內(nèi)大力推動(dòng)成熟制程產(chǎn)能擴(kuò)產(chǎn)，提高國產(chǎn)芯片比例。根據(jù)TrendForce在2023年12月的預(yù)測，2023-2027年中國大陸的成熟制程產(chǎn)能占比將由31%增長至39%。成熟制程相對(duì)于先進(jìn)制程工藝制程節(jié)點(diǎn)更低，對(duì)光刻膠的要求中等，國產(chǎn)光刻膠廠商有望抓住機(jī)遇，推動(dòng)自身產(chǎn)品進(jìn)入供應(yīng)鏈。
　　美日企業(yè)壟斷光刻膠市場，國產(chǎn)替代加速突破
　　光刻膠市場被美日企業(yè)壟斷。全球半導(dǎo)體光刻膠市場基本被日本企業(yè)壟斷。市場TOP5中東京應(yīng)化、陶氏化學(xué)、JSR和住友化學(xué)均為日本企業(yè)。目前國內(nèi)8英寸和12英寸晶圓制造產(chǎn)線中使用的先進(jìn)光刻膠仍有90%以上依賴進(jìn)口。在美日荷聯(lián)合制裁中國大陸半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)鏈后，國產(chǎn)先進(jìn)制程用光刻膠的國產(chǎn)化已取得較大進(jìn)展，在g/I線和KrF光刻膠中已能實(shí)現(xiàn)一定替代，而ArF光刻膠逐步取得核心突破，國產(chǎn)化前景光明。
　　投資建議
　　未來光刻膠國產(chǎn)化步伐有望加速。建議關(guān)注：彤程新材和華懋科技等。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示
　　國際政治動(dòng)蕩和摩擦加?。粐鴥?nèi)芯片產(chǎn)能擴(kuò)產(chǎn)不及預(yù)期；光刻膠國產(chǎn)化不及預(yù)期；行業(yè)競爭格局惡化。