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本報告導讀：
　　公司發(fā)布24H1業(yè)績預報，歸母凈利潤達25.7~29.6億元，同比超預期增長42.84% ~64.51%，看好公司長期發(fā)展。
　　投資要點：
　　維持增持評級，上調目標價至420.80元。公司為半導體設備龍頭，充分受益于晶圓代工廠擴產。受下游逐步復蘇、擴產積極影響，我們上調公司2024-2025年EPS業(yè)績?yōu)?0.52/14.75（原值9.73/12.71）元，并新增2026年EPS 21.18元。參照行業(yè)估值37.2 x PE，考慮公司積極打造平臺型企業(yè)，核心產品刻蝕設備、薄膜沉積、清洗設備占前道設備資本開支合計接近50%，跟隨其在先進制程進軍，如CVD、ALD、刻蝕設備等，成長空間廣闊，給予公司估值水平2024年40 x PE，上調目標價至420.80元，維持增持評級。
　　公司24H1營收復合預期，凈利潤水平超預期。公司發(fā)布2024H1業(yè)績預告，營收、凈利潤維持高速增長。預計公司24年上半年營收達114.1~131.4億元，同比+35.40%~55.93%；歸母凈利潤25.70~29.60億元，同比+42.84%~64.51%；扣非歸母凈利潤24.40~28.10億元，同比+51.64%~74.63%。取營收、凈利潤中間值，預計公司2Q24營收64.2億元，同比+41%，環(huán)比+10%；歸母凈利潤16.4億元，同比+35%，環(huán)比大增45%，利潤水平超預期，凈利率預估可達25.5%，環(huán)比+6.5pcts，同比+9.6pcts。
　　公司刻蝕等優(yōu)勢領域市占率持續(xù)提升，平臺化布局助力長期高速發(fā)展。公司應用于集成電路領域的刻蝕、薄膜沉積、清洗、爐管和快速退火等工藝裝備工藝覆蓋度及市場占有率持續(xù)穩(wěn)步攀升。在薄膜沉積領域，公司是PVD設備的先行者，目前已實現(xiàn)了邏輯、存儲芯片金屬化制程的全覆蓋。公司不斷拓寬產品矩陣，布局MCVD、DCVD等國產化率較低的關鍵化學氣相沉積設備，至2023年底，已累計出貨超1000腔。公司自主研發(fā)的12英寸常壓硅外延設備，實現(xiàn)了對邏輯芯片、存儲芯片、功率器件及特色工藝的全覆蓋，且已全部成功量產?？涛g領域，公司產品覆蓋ICP、CCP、TSV等關鍵領域，公司的TSV刻蝕設備已廣泛應用于國內主流Fab廠和先進封裝廠，已成為國內TSV量產線的主力機臺，市占率領先。跟隨下游晶圓廠成熟+先進制程持續(xù)擴產及對國家戰(zhàn)略安全的充分考慮，公司作為半導體龍頭，將率先受益。
　　催化劑：晶圓廠擴產積極；公司新品突破
　　風險提示：市場需求不及預期；公司產品驗證不及預期