>> 東海證券-半導(dǎo)體行業(yè)深度報告(十一)：光刻機，國產(chǎn)設(shè)備發(fā)展任重道遠，零組件企業(yè)或?qū)㈤L期受益-240912
| 上傳日期： |
2024/9/13 |
大小： |
4500KB |
| 格式： |
pdf 共37頁 |
來源： |
東海證券 |
| 評級： |
-- |
作者： |
方霽 |
| 下載權(quán)限： |
無限制-登錄即可下載 |
|
|
光刻技術(shù)經(jīng)過不斷地技術(shù)迭代已經(jīng)達到了以浸沒式、多重曝光技術(shù)為主的先進光刻技術(shù)環(huán)節(jié)，芯片的制程技術(shù)達到了3nm以下。光刻是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中最重要的步驟之一，典型的光刻工藝流程包括8個步驟，分別是底膜準(zhǔn)備、涂膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、曝光后烘、顯影、堅膜、顯影檢測。在光刻機的發(fā)展歷史中，光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近式光刻機、掃描投影光刻機、步進重復(fù)式光刻機到現(xiàn)在的步進掃描光刻機的發(fā)展歷程，現(xiàn)階段主流技術(shù)為步進掃描光刻機，其余技術(shù)基本已經(jīng)被淘汰了。主流的光刻機均采用浸沒系統(tǒng)、可編程光照、畸變修正、熱效應(yīng)修正、對準(zhǔn)與表面測量等高難度技術(shù)。光刻機可通過多重曝光來提高光刻精度，但是當(dāng)制程節(jié)點達到3nm以下時，EUV光刻機則成為了必需的設(shè)備。光刻機重要結(jié)構(gòu)包括光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、工作臺，其中光源系統(tǒng)是決定光刻機技術(shù)迭代的關(guān)鍵系統(tǒng)，光源技術(shù)迭代經(jīng)歷了g-line、i-line、KrF、ArF、EUV技術(shù)，光刻精度也從800nm逐步提升至3nm。
全球光刻機規(guī)模在2023年約為271億美元，ASML、Nikon、Canon這3家公司幾乎壟斷全球光刻機供應(yīng)。2023年全球光刻機總規(guī)模高達271.3億美元，預(yù)計2024年或?qū)⒃鲩L到315億美元，長期來看光刻機需求有量價齊升的邏輯，市場規(guī)模有望保持增長趨勢。光刻機的價值量隨著制程不斷降低呈現(xiàn)指數(shù)級別上漲，未來3nm-1nm制程的光刻機價值量或?qū)⒊^10億元。2022年三家公司共出貨551臺光刻機，其中ASML生產(chǎn)了345臺光刻機，占比63%。如果拆分不同類別的光刻機占比來看，在EUV領(lǐng)域，ASML具有絕對話語權(quán)，占有100%份額，ASML官網(wǎng)數(shù)據(jù)，2023年各類光刻機均價為EUV（17386萬歐元）、ArFi（7196萬歐元）、ArFdry（2742萬歐元）、KrF（1192萬歐元）、l-ine（399萬歐元）。
目前光刻機國產(chǎn)化率僅為2.5%，整機技術(shù)與海外差距較大，短期5-10年內(nèi)一方面重點發(fā)展90、28nm光刻機的研發(fā)量產(chǎn)較為關(guān)鍵，一方面重點布局國內(nèi)半導(dǎo)體零組件發(fā)展。根據(jù)中國國際招標(biāo)網(wǎng)信息，半導(dǎo)體設(shè)備招標(biāo)中，刻蝕、沉積等核心設(shè)備的國產(chǎn)化率獲得了較大的提升，核心在于技術(shù)上我國相關(guān)企業(yè)已經(jīng)逐步追趕上海外企業(yè)；但光刻機作為核心設(shè)備，國產(chǎn)化率不足3%，核心原因在于零組件供應(yīng)與整機技術(shù)與海外差距較大，這樣的技術(shù)發(fā)展需要長達5-10年甚至更久遠時間才能逐步突破。我國2023年進口光刻機數(shù)量高達225臺，進口金額高達87.54億美元，進口金額創(chuàng)下歷史新高，預(yù)計3-5年內(nèi)我國光刻機主要依賴進口。一臺先進的光刻機高達10萬個零部件，整體來看我國半導(dǎo)體零組件的國產(chǎn)化率非常低，盡管在各個賽道均有相關(guān)的國有企業(yè)在不斷發(fā)展，距離海外企業(yè)依然有較大的差距，同時也預(yù)示著國內(nèi)零組件企業(yè)公司有較大的發(fā)展機遇。
建議關(guān)注光刻機以及光刻機零部件賽道優(yōu)質(zhì)企業(yè)。在海外不斷修改半導(dǎo)體貿(mào)易規(guī)則的外部環(huán)境下，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)要發(fā)展進步，光刻機不可或缺，光刻技術(shù)壁壘極高，長期不斷積累才能構(gòu)建企業(yè)長期核心競爭力，國產(chǎn)光刻機整機與零組件企業(yè)已經(jīng)逐步形成一定規(guī)模，在自主可控勢在必行的長期形勢下，國產(chǎn)企業(yè)有望迎來較大市場機遇。建議關(guān)注：光刻機整機龍頭廠商上海微電子（未上市）、金屬工藝件/結(jié)構(gòu)件廠商富創(chuàng)精密、光學(xué)鏡頭領(lǐng)先廠商茂萊光學(xué)、半導(dǎo)體潔凈領(lǐng)域核心廠商美?？萍?、光學(xué)晶體龍頭福晶科技、半導(dǎo)體管閥生產(chǎn)商新萊應(yīng)材。
風(fēng)險提示：1）光刻機研發(fā)進度不及預(yù)期的風(fēng)險；2）下游需求復(fù)蘇不及預(yù)期的風(fēng)險；3）國際貿(mào)易規(guī)則變更的風(fēng)險。
|
|
