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l投資要點(diǎn)
　　集成電路裝備高增長(zhǎng)，戰(zhàn)略并購(gòu)驅(qū)動(dòng)全鏈技術(shù)協(xié)同。公司2025H1實(shí)現(xiàn)營(yíng)收161.42億元，同比+29.51%，其中電子工藝裝備收入為152.58億元，同比+33.89%。在集成電路裝備領(lǐng)域，多款高端裝備實(shí)現(xiàn)客戶端量產(chǎn)，工藝覆蓋度及市場(chǎng)占有率進(jìn)一步提升，產(chǎn)品矩陣完整性顯著增強(qiáng)，2025H1公司刻蝕/薄膜沉積/熱處理/濕法設(shè)備收入各超50/65/10/5億元。同時(shí)推進(jìn)離子注入設(shè)備及電鍍ECP設(shè)備，強(qiáng)化平臺(tái)型布局。2025H1公司完成收購(gòu)芯源微，進(jìn)一步完善了在半導(dǎo)體裝備領(lǐng)域的產(chǎn)品線布局，特別是在光刻工序配套裝備方面與原有半導(dǎo)體裝備業(yè)務(wù)形成強(qiáng)大協(xié)同效應(yīng)，通過市場(chǎng)、技術(shù)、供應(yīng)鏈等領(lǐng)域的有效協(xié)同優(yōu)化資源配置。2025H1公司實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)32.08億元，同比+14.97%，實(shí)現(xiàn)扣非歸母凈利潤(rùn)31.81億元，同比+20.17%。2025H1公司電子工藝裝備/電子元器件業(yè)務(wù)的毛利率分別為41.70%/50.43%，分別同比-2.93pcts/-6.96pcts;2025H1，公司研發(fā)費(fèi)用為20.77億元，同比+54.28%。
　　平臺(tái)型領(lǐng)軍廠商持續(xù)受益于下游擴(kuò)產(chǎn)與國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。中國(guó)的集成電路和泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近年來持續(xù)興旺。在政府的大力推動(dòng)和業(yè)界的努力下，在半導(dǎo)體設(shè)備的門類、性能和大規(guī)模量產(chǎn)能力等方面，國(guó)產(chǎn)設(shè)備和國(guó)外設(shè)備相比正在快速縮小差距，發(fā)展迅速并已初具規(guī)模，中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模在全球的占比逐年提升。根據(jù)SEMI，在先進(jìn)邏輯、存儲(chǔ)和技術(shù)轉(zhuǎn)型帶動(dòng)下，2026年半導(dǎo)體制造設(shè)備銷售額有望進(jìn)一步提高至1,300億美元，中國(guó)大陸、中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)仍將是設(shè)備支出的前三大區(qū)域。根據(jù)Yole，中國(guó)大陸有望在2030年成為全球最大的半導(dǎo)體晶圓代工中心，預(yù)計(jì)占全球總裝機(jī)產(chǎn)能比例將由2024年的21%提升至30%。公司作為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備平臺(tái)型領(lǐng)軍廠商，產(chǎn)品覆蓋刻蝕、薄膜沉積、熱處理、清洗、涂膠顯影、離子注入等多個(gè)核心工藝環(huán)節(jié)，工藝覆蓋度完善，國(guó)內(nèi)份額持續(xù)提升，將持續(xù)受益于下游擴(kuò)產(chǎn)與國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。
　　l投資建議
　　我們預(yù)計(jì)公司2025/2026/2027年分別實(shí)現(xiàn)收入395/499/599億元，分別實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)74/96/120億元，維持“買入”評(píng)級(jí)。
　　l風(fēng)險(xiǎn)提示
　　人力資源風(fēng)險(xiǎn)，供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn),技術(shù)更新風(fēng)險(xiǎn)，市場(chǎng)需求波動(dòng)風(fēng)險(xiǎn)，并購(gòu)整合風(fēng)險(xiǎn)。