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事件
　　公司2025年第二季度實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入28億元，同比增加51%，環(huán)比增加28%；歸母凈利潤(rùn)4億元，同比增加47%，環(huán)比增加25%；扣非凈利2億元，同比增加9%，環(huán)比減少19%。
　　公司2025年上半年實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入50億元，同比增加44%；歸母凈利潤(rùn)7億元，同比增加37%；扣非凈利5億元，同比增加11%。
　　刻蝕設(shè)備快速增長(zhǎng)，LPCVD實(shí)現(xiàn)收入突破
　　2025年上半年，公司刻蝕設(shè)備銷售收入達(dá)38億元，同比增長(zhǎng)約40%。LPCVD設(shè)備銷售約2億元，同比大增608%。截至2025年上半年，CCP設(shè)備累計(jì)裝機(jī)量超4500個(gè)反應(yīng)臺(tái)，其中雙反應(yīng)臺(tái)機(jī)型突破3300個(gè)，單反應(yīng)臺(tái)機(jī)型近1200個(gè)；ICP刻蝕累計(jì)裝機(jī)量超過1200個(gè)反應(yīng)臺(tái)。公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用于國際一線客戶的65至5納米工藝的生產(chǎn)線。
　　研發(fā)驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)略成效顯著，不斷創(chuàng)新構(gòu)建多元產(chǎn)品矩陣
　　公司通過內(nèi)生增長(zhǎng)和外延擴(kuò)張相結(jié)合的策略，積極探索新興領(lǐng)域，2025年上半年，公司研發(fā)投入同比增長(zhǎng)54%，占營收的30%，同時(shí)，公司研發(fā)速度實(shí)現(xiàn)跨越式提升，將新設(shè)備的開發(fā)周期從3到5年縮短至2年甚至更短時(shí)間。9月4日，公司在CSEAC 2025發(fā)布六款新品，包括等離子體刻蝕、ALD及外延等關(guān)鍵工藝。在核心的刻蝕技術(shù)上，公司新一代極高深寬比CCP刻蝕機(jī)Primo UD-RIE，憑借自主研發(fā)的動(dòng)態(tài)邊緣阻抗調(diào)節(jié)系統(tǒng)，攻克了行業(yè)工藝難題，為生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片提供了有力保障。全球首款雙腔減壓外延設(shè)備PRIMIOEpita RP，以全球最小反應(yīng)腔的創(chuàng)新設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了高效率與低成本的結(jié)合。在薄膜沉積領(lǐng)域，PreformaUniflash設(shè)備采用獨(dú)創(chuàng)的雙反應(yīng)臺(tái)設(shè)計(jì)，將生產(chǎn)效率和工藝性能提升至世界先進(jìn)水平。公司正通過一系列突破性創(chuàng)新，強(qiáng)化其在半導(dǎo)體核心設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)先地位
　　投資建議
　　我們預(yù)計(jì)2025-2027年公司歸母凈利潤(rùn)分別為24.76、34.13、42.94億元，對(duì)應(yīng)的EPS分別為3.95、5.45、6.86元，對(duì)應(yīng)最新收盤價(jià)PE分別為73x、53x、42x。維持公司“買入”評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示
　　研發(fā)進(jìn)度不及預(yù)期、產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇、貿(mào)易摩擦加劇