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投資要點(diǎn)：
　　事件：公司公告擬通過(guò)發(fā)行股份方式購(gòu)買(mǎi)杭州眾硅電子科技有限公司（下稱(chēng)“眾硅科技”）控股權(quán)并同步募集配套資金。公司股票自2025年12月19日起停牌，預(yù)計(jì)停牌時(shí)間不超過(guò)10個(gè)交易日。
　　眾硅科技成立于2018年，主要從事CMP設(shè)備及配套系統(tǒng)研發(fā)制造，產(chǎn)品布局覆蓋6–12英寸CMP整機(jī)、單模組CMP、拋光液供液系統(tǒng)（SDS）及ECMP等。其中，12英寸高端CMP設(shè)備已批量應(yīng)用，8英寸先進(jìn)CMP設(shè)備通過(guò)SEMI認(rèn)證并導(dǎo)入多家晶圓廠產(chǎn)線(xiàn)。
　　 CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）設(shè)備價(jià)值量約占半導(dǎo)體設(shè)備投資總額的4%，市場(chǎng)集中度較高。1）CMP通過(guò)化學(xué)反應(yīng)與機(jī)械去除協(xié)同實(shí)現(xiàn)晶圓表面高精度平坦化，是當(dāng)前唯一能夠有效拋光銅互連金屬層的關(guān)鍵工藝，廣泛應(yīng)用于晶圓制造及TSV、2.5D/3DIC等先進(jìn)封裝環(huán)節(jié)。2）據(jù)頭豹，預(yù)計(jì)2025-2029年，中國(guó)半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模由183億元人民幣增長(zhǎng)至486億元人民幣，期間年復(fù)合增長(zhǎng)率27.7%；3）CMP行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局高度集中，根據(jù)Gartner，Applied Materials與日本荏原合計(jì)占據(jù)全球約93%的CMP市場(chǎng)份額，尤其在14nm以下先進(jìn)制程產(chǎn)線(xiàn)中形成壟斷。
　　公司此次籌劃收購(gòu)眾硅科技，核心意義在于補(bǔ)齊濕法關(guān)鍵工藝、完善前道核心設(shè)備體系，加速向平臺(tái)型半導(dǎo)體設(shè)備廠商演進(jìn)。1）工藝上，公司現(xiàn)有產(chǎn)品以刻蝕、薄膜沉積等真空干法設(shè)備為主，而CMP是濕法工藝中不可替代的核心環(huán)節(jié)，與刻蝕、沉積共同構(gòu)成除光刻機(jī)外最關(guān)鍵的前道工藝裝備組合。通過(guò)并購(gòu)切入CMP領(lǐng)域，公司有望實(shí)現(xiàn)“刻蝕—沉積—平坦化”工藝系統(tǒng)覆蓋，提升體解決方案競(jìng)爭(zhēng)力。2）戰(zhàn)略上，本次交易推動(dòng)公司由單一設(shè)備龍頭向“集團(tuán)化、平臺(tái)化”設(shè)備企業(yè)邁出關(guān)鍵一步。
　　投資建議：維持"買(mǎi)入"評(píng)級(jí)。我們預(yù)計(jì)公司2025–2027年歸母凈利潤(rùn)分別為21.81/31.58/42.78億元，對(duì)應(yīng)同比增長(zhǎng)35.0%/44.8%/35.4%，對(duì)應(yīng)PE分別為74.8x/51.6x/38.1x。在晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)與國(guó)產(chǎn)替代推進(jìn)下，本次收購(gòu)補(bǔ)齊CMP關(guān)鍵工藝，完善前道設(shè)備體系，推動(dòng)公司平臺(tái)化發(fā)展并強(qiáng)化中長(zhǎng)期成長(zhǎng)性。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備市場(chǎng)拓展不及預(yù)期、標(biāo)的公司業(yè)務(wù)整合進(jìn)度不及預(yù)期。