>> 方正證券-半導(dǎo)體行業(yè)專題報告:HBM高帶寬內(nèi)存,新一代DRAM解決方案-230424
| 上傳日期: |
2023/4/25 |
大小: |
3724KB |
| 格式: |
pdf 共33頁 |
來源: |
方正證券 |
| 評級: |
-- |
作者: |
吳文吉 |
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投資要點 HBM概覽: JEDEC定義了三類DRAM標準,以滿足各種應(yīng)用的設(shè)計要求,HBM與GDDR屬于圖形DDR,面向需要極高吞吐量的數(shù)據(jù)密集型應(yīng)用程序,例如圖形相關(guān)應(yīng)用程序、數(shù)據(jù)中心加速和AI。 HBM演進必要性:解決存儲墻瓶頸刺激內(nèi)存高帶寬需求。HBM(High Bandwidth Memory,高帶寬內(nèi)存):一款新型的CPU/GPU內(nèi)存芯片,將很多個DDR芯片堆疊在一起后和GPU封裝在一起,實現(xiàn)大容量,高位寬的DDR組合陣列。通過增加帶寬,擴展內(nèi)存容量,讓更大的模型,更多的參數(shù)留在離核心計算更近的地方,從而減少內(nèi)存和存儲解決方案帶來的延遲。 HBM提高有效帶寬途徑:Pseudo Channel Mode偽通道。HBM2的主要增強功能之一是其偽通道模式,該模式將通道分為兩個單獨的子通道,每個子通道分別具有64位I/O,從而為每個存儲器的讀寫訪問提供128位預(yù)取。 HBM結(jié)構(gòu):通過TSV將數(shù)個DRAM die垂直堆疊。HBM主要是通過硅通孔(Through Silicon Via,簡稱“TSV”)技術(shù)進行芯片堆疊,以增加吞吐量并克服單一封裝內(nèi)帶寬的限制,將數(shù)個DRAM裸片像樓層一樣垂直堆疊。較傳統(tǒng)封裝方式,TSV技術(shù)能夠縮減30%體積,并降低50%能耗。 從技術(shù)角度看,HBM促使DRAM從傳統(tǒng)2D加速走向立體3D,充分利用空間、縮小面積,契合半導(dǎo)體行業(yè)小型化、集成化的發(fā)展趨勢。HBM突破了內(nèi)存容量與帶寬瓶頸,被視為新一代DRAM解決方案。 HBM技術(shù)演進:目前SK海力士為唯一量產(chǎn)新世代HBM3供應(yīng)商。2022年1月,JEDEC組織正式發(fā)布了新一代高帶寬內(nèi)存HBM3的標準規(guī)范,繼續(xù)在存儲密度、帶寬、通道、可靠性、能效等各個層面進行擴充升級。 HBM的不足:系統(tǒng)搭配缺乏靈活性(出廠后無法容量擴展),內(nèi)存容量受限,訪問延遲較高。 HBM與其他DDR的替代關(guān)系比較分析:HBM+DDR協(xié)同發(fā)展,HBM負責(zé)高帶寬小容量,DDR負責(zé)稍低帶寬大容量。 HBM競爭格局與應(yīng)用市場:三巨頭壟斷,受益于AI服務(wù)器市場增長。據(jù)TrendForce集邦咨詢研究顯示,2022年三大原廠HBM市占率分別為SK海力士(SK hynix)50%、三星(Samsung)約40%、美光(Micron)約10%。新思界預(yù)測2025E中國HBM需求量將超過100萬顆。 相關(guān)標的: 存儲:兆易創(chuàng)新 封裝:長電科技,通富微電,深科技 風(fēng)險提示:1)半導(dǎo)體下游需求不及預(yù)期;2)技術(shù)發(fā)展不及預(yù)期;3)行業(yè)競爭加劇。
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