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投資要點(diǎn)
　　2025H1業(yè)績高增，平臺(tái)化布局顯現(xiàn)：公司預(yù)計(jì)2025年上半年?duì)I收49.6億元，同比+43.9%；其中刻蝕設(shè)備收入37.8億元，同比+40.1%，LPCVD設(shè)備收入1.99億元，同比高增608.2%。營收顯著增長主要得益于公司用于先進(jìn)存儲(chǔ)&邏輯的高端刻蝕設(shè)備付運(yùn)量顯著提升，LPCVD、ALD等新產(chǎn)品形成重復(fù)訂單。2025H1歸母凈利潤預(yù)計(jì)為6.8-7.3億元，同比+31.6至41.3%；扣除非經(jīng)常性損益后的凈利潤為5.1-5.6億元，同比+5.5至15.9%，主要得益于營收增長帶來的毛利增加。2025年Q2單季預(yù)計(jì)營收27.9億元，同比+51.3%，環(huán)比+28.6%；Q2單季歸母凈利潤預(yù)計(jì)為3.7-4.2億元，同比+37.0至55.6%，環(huán)比+19.4至35.5%。
　　公司持續(xù)加大研發(fā)投入，在手訂單充足：目前公司在研項(xiàng)目涵蓋六類設(shè)備和20多個(gè)新設(shè)備，2025年上半年研發(fā)投入14.9億元，同比+53.7%；占公司營收比例為30.1%。截至2025Q1末公司合同負(fù)債為30.7億元，同比+162.4%；存貨為74.5億元，同比+33.4%；2025Q1公司經(jīng)營性現(xiàn)金流為3.8億元。
　　刻蝕產(chǎn)品持續(xù)領(lǐng)先，鍍膜產(chǎn)品拓展順利：（1）CCP設(shè)備：在邏輯領(lǐng)域已對(duì)28nm以上的絕大部分CCP刻蝕應(yīng)用和28nm及以下的大部分CCP刻蝕應(yīng)用形成較為全面的覆蓋，且已有大量機(jī)臺(tái)進(jìn)入國際5nm及以下邏輯；截至2024Q4已交付4000個(gè)反應(yīng)臺(tái)。在存儲(chǔ)領(lǐng)域，超高深寬比刻蝕機(jī)已在客戶端驗(yàn)證出≥60：1深寬比結(jié)構(gòu)的能力，成功進(jìn)入2D&3D存儲(chǔ)芯片產(chǎn)線。同時(shí)，公司積極布局超低溫刻蝕技術(shù)，積極儲(chǔ)備≥90:1深寬比刻蝕技術(shù)。（2）ICP設(shè)備：公司ICP設(shè)備在客戶端安裝腔體數(shù)量近四年CAGR超100%，截至2024年已累計(jì)安裝超1025個(gè)反應(yīng)臺(tái)，覆蓋超50個(gè)邏輯、DRAM、3DNAND等客戶；公司的TSV刻蝕設(shè)備也已應(yīng)用于先進(jìn)封裝。此外，公司正在研發(fā)用于5-3nm邏輯芯片的ICP刻蝕機(jī)。（3）MOCVD設(shè)備：積極布局第三代半導(dǎo)體設(shè)備，現(xiàn)已在LED等GaN基設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位，并在Micro-LED領(lǐng)域的MOCVD設(shè)備開發(fā)上取得良好進(jìn)展。用于SiC器件的外延設(shè)備已付運(yùn)樣機(jī)至國內(nèi)領(lǐng)先客戶開展驗(yàn)證測試。（4）薄膜沉積設(shè)備：公司首臺(tái)CVD鎢設(shè)備付運(yùn)到關(guān)鍵存儲(chǔ)客戶端驗(yàn)證評(píng)估，已通過客戶現(xiàn)場驗(yàn)證，并獲得客戶重復(fù)量產(chǎn)訂單，公司開發(fā)的應(yīng)用于高端存儲(chǔ)和邏輯器件的ALD氮化鈦、鈦鋁、氮化鉭設(shè)備也已完成多個(gè)邏輯/存儲(chǔ)客戶驗(yàn)證；EPI設(shè)備也已完成多家先進(jìn)邏輯器件與MTM器件客戶的工藝驗(yàn)證，并獲得了客戶的高度認(rèn)可。（5）量檢測設(shè)備：成立子公司超微公司引入電子束檢測設(shè)備領(lǐng)軍人才，已規(guī)劃覆蓋多種量檢測設(shè)備。
　　盈利預(yù)測與投資評(píng)級(jí)：我們維持公司2025-2027年歸母凈利潤為24.3/34.0/44.5億元，當(dāng)前股價(jià)對(duì)應(yīng)動(dòng)態(tài)PE分別為47/34/26倍，維持“買入”評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏不及預(yù)期，新品研發(fā)&產(chǎn)業(yè)化不及預(yù)期等