>> 中航證券-電子行業(yè)光刻機深度：篳路藍縷，尋光刻星火-230908
| 上傳日期： |
2023/9/8 |
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| 4287KB |
| 格式： |
pdf 共61頁 |
來源： |
中航證券 |
| 評級： |
增持 |
作者： |
劉牧野 |
| 行業(yè)名稱： |
電子 |
| 下載權(quán)限： |
無限制-登錄即可下載 |
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核心觀點
光刻為IC制造核心工藝，光刻技術(shù)的演進成就了摩爾定律。光刻工藝占IC制造1/2的時間+1/3的成本，在瑞利公式：= 1/的指導下，人類在縮短波長，增大數(shù)值孔徑NA，降低工藝因子1三個方面展開探索，目前已實現(xiàn)13.5nm波長與達物理極限的1，正在向0.55NAEUV邁步。為了實現(xiàn)進一步制程微縮，業(yè)界多采用多重曝光工藝，但對光刻機的套刻精度、圖形畸變、穩(wěn)定性有更高的要求。10nm及以下時，ArFi+多重曝光的復雜度急劇上升，經(jīng)濟性下降，EUV的出現(xiàn)使摩爾定律得以延續(xù)。
光刻機由三大核心系統(tǒng)，數(shù)萬個零件組成，是產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)頂尖公司通力合作的成果。1）光源方面，DUV采用準分子激光器，技術(shù)掌握在Cymer和Gigaphoton手中，國內(nèi)科益虹源打破壟斷；EUV光源是通過高功率CO2激光器轟擊Sn滴而來，高功率激光器為核心組件。2）光學系統(tǒng)是光刻機分辨率成像的保證，由照明系統(tǒng)和物鏡系統(tǒng)構(gòu)成，照明系統(tǒng)優(yōu)化成像過程，實現(xiàn)分辨率增強；投影物鏡系統(tǒng)將掩模圖形聚焦成像，ZEISS為ASML關(guān)鍵光學元件獨供商，國內(nèi)技術(shù)水平仍有較大差距。3）雙工件臺系統(tǒng)有效提高了光刻精度與效率，國內(nèi)華卓精科和清華大學團隊走在前列。
光刻重要性愈顯，國內(nèi)亟待0→1的突破。半導體行業(yè)十年翻倍，晶圓廠積極擴產(chǎn)，疊加芯片性能升級，光刻強度上升，預計5nm邏輯芯片的光刻支出占比達35%，光刻工藝的重要性愈發(fā)凸顯，市場規(guī)?？焖僭鲩L，預計2024年有望達230億美元，ASML在高端市場一枝獨秀。2022年中國大陸光刻機進口約40億美元，主要從日本、荷蘭進口，出口管制下光刻機存在斷供隱憂，自主可控勢在必行。依托舉國之力，匯聚各科研院之所長，目前已有階段性成果陸續(xù)落地。光刻機產(chǎn)業(yè)化漸近，零部件投資先行，我們測算國內(nèi)零部件市場空間約150億元，市場空間大、技術(shù)關(guān)鍵性強。
建議關(guān)注：1）光刻機零部件：福晶科技、奧普光電、茂萊光學、福光股份、炬光科技、騰景科技、蘇大維格、華卓精科（未上市）等；2）光刻機周邊配套：美?？萍?、藍英裝備、芯源微、微導納米等；3）光刻機相關(guān)材料：華懋科技、彤程新材、清溢光電、龍圖光罩（未上市）等。
風險提示：國產(chǎn)光刻機研發(fā)及落地不及預期；需求疲軟，晶圓廠擴產(chǎn)不及預期；競爭加劇的風險；出口管制進一步加劇的風險。
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