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投資要點(diǎn)：
　　光刻機(jī)——工業(yè)皇冠上的明珠。芯片制造流程大致包括晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕、薄膜沉積、互連、測(cè)試、封裝等重要步驟。其中，光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。光刻原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），使光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projection lens），將影像縮小到十六分之一后成像（影像復(fù)制）在預(yù)涂光阻層的晶圓（wafer）上。光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備。
　　提升光刻機(jī)分辨率路徑：更短波長(zhǎng)和增大數(shù)值孔徑。更短波長(zhǎng)光源推動(dòng)光刻機(jī)分辨率不斷提升。使用i-line光源的ASML光刻機(jī)，最高分辨率可達(dá)220nm。Kr-F（248nm）和Ar-F（193nm），將分辨率進(jìn)一步提升至110nm（Kr-F）和65nm（Ar-F）。EUV，光刻分辨率達(dá)到了8nm。增大數(shù)值孔徑可以提升分辨率，浸沒式系統(tǒng)突破了DUV光刻機(jī)0.93的數(shù)值孔徑，將DUV分辨率提升到38nm以下。
　　全球市場(chǎng)規(guī)模超300億美金，ASML一家獨(dú)大。根據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院估計(jì)，光刻機(jī)占半導(dǎo)體設(shè)備比例約24%上下，由此預(yù)估2024全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模約為315億美元。出貨角度，光刻機(jī)銷量仍以中低端產(chǎn)品為主，KrF、i-Line占比分別為37.9%和33.6%；其次分別為ArFi、ArFdry、EUV，占比分別為15.4%、5.8%及7.3%。2022年，ASML、Canon、Nikon在光刻機(jī)市場(chǎng)份額分別為82.1%、10.2%和7.7%。
　　國(guó)內(nèi)晶圓廠建設(shè)潮及美國(guó)加大對(duì)華出口管制下，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化迫在眉睫。2026年底，大陸12英寸晶圓廠的總月產(chǎn)能有望從2023年的217萬片（規(guī)劃產(chǎn)能）增長(zhǎng)到超過414萬片。人工智能發(fā)展大幅提升國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程產(chǎn)能需求。芯片生產(chǎn)產(chǎn)線建設(shè)中，光刻機(jī)購置成本最高，達(dá)到設(shè)備總投資的21%-23%。國(guó)內(nèi)晶圓廠建設(shè)潮和AI快速發(fā)展帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)需求持續(xù)攀升。美國(guó)持續(xù)加大對(duì)華半導(dǎo)體設(shè)備出口管制下，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)有望加速崛起。
　　光刻機(jī)整機(jī)主要由照明光學(xué)模組、投影物鏡模組、晶圓模組構(gòu)成。照明光學(xué)模組分為光源和照明模組。投影物鏡模組包含多種反射鏡和透鏡，主要功能是把掩模版上的電路圖案縮小到1/16之后，聚焦成像到預(yù)涂光阻層的晶圓上。晶圓模組分為晶圓傳送模組和晶圓平臺(tái)模組，分別負(fù)責(zé)晶圓傳送和承載晶圓及精準(zhǔn)定位晶圓來曝光。
　　投資建議：關(guān)注茂萊光學(xué)、福光股份、匯成真空、英諾激光、蘇大維格、芯碁微裝、中旗新材等。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：宏觀環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)、產(chǎn)業(yè)政策變化的風(fēng)險(xiǎn)、市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇的風(fēng)險(xiǎn)等