>> 國海證券-強力新材(300429)公司動態(tài)研究:光刻膠專用化學品企業(yè),布局PSPI等高端材料-260615
| 上傳日期: |
2026/6/15 |
大小: |
318KB |
| 格式: |
pdf 共6頁 |
來源: |
國海證券 |
| 評級: |
買入 |
作者: |
董伯駿,李娟廷 |
| 下載權(quán)限: |
無限制-登錄即可下載 |
|
|
光刻膠專用電子化學品生產(chǎn)企業(yè),市場需求有望高增 公司是國內(nèi)少數(shù)有能力深耕光刻膠專用電子化學品和綠色光固化材料領(lǐng)域的國家火炬計劃重點高新技術(shù)企業(yè)。長期以來,光刻膠專用電子化學品技術(shù)和市場主要被日本、歐美等海外企業(yè)所掌握。公司是國內(nèi)少數(shù)布局光刻膠專用電子化學品的企業(yè),依托自身的研發(fā)實力和持續(xù)投入,通過20多年的不懈努力,技術(shù)和產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋了PCB干膜光刻膠、LCD光刻膠、半導體光刻膠等主要光刻膠種類中的關(guān)鍵原材料品種。公司擁有穩(wěn)定而優(yōu)質(zhì)的客戶是公司的核心競爭力之一。公司主要客戶包括長興化學、旭化成、RESONAC、住友化學、JSR、DNP、三菱化學、LGC、ARTIENCE、奇美、長春化工等全球知名光刻膠生產(chǎn)商。公司與這些客戶合作多年,在新產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化方面建立了良好的合作關(guān)系。 光刻膠專用電子化學品指的是生產(chǎn)光刻膠使用的化學原料,包括光刻膠光引發(fā)劑、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)和其他助劑。光刻膠光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等)和光刻膠樹脂等專用電子化學品是影響光刻膠性能的最重要原料。由于光刻膠用于加工制作精細度極高的圖形線路,對作為原料的化學品的純度、雜質(zhì)、金屬離子含量等要求非常嚴苛。近年來,隨著新技術(shù)、新工藝不斷涌現(xiàn),電子信息產(chǎn)業(yè)的更新?lián)Q代速度不斷加快,對光刻膠的需求不論是品種還是數(shù)量都在持續(xù)增長。隨著PCB光刻膠行業(yè)已基本完成向中國大陸的轉(zhuǎn)移,LCD光刻膠行業(yè)正在推進向中國大陸轉(zhuǎn)移的進程,以及半導體光刻膠行業(yè)國產(chǎn)化的趨勢,市場需求的擴大、行業(yè)自身的技術(shù)進步及國家政策的持續(xù)鼓勵,電子化學品產(chǎn)業(yè)面臨著良好的行業(yè)發(fā)展機遇。公司秉持創(chuàng)新引領(lǐng)理念,以市場為導向聚焦干膜光刻膠行業(yè)問題與前瞻性技術(shù),在半導體光刻膠關(guān)鍵原材料方面,公司主要布局的產(chǎn)品方向有:半導體i線光酸、半導體KrF光酸、半導體ArF光酸、自由基聚合PHS樹脂、陰離子聚合PHS樹脂。公司光酸產(chǎn)品主要技術(shù)指標能夠滿足下游行業(yè)應用需求。公司圍繞PFASFree課題方向,自主開發(fā)全新i線光酸新結(jié)構(gòu),已進入客戶評價體系。自由基聚合PHS樹脂目前已進入客戶端進行連續(xù)放大驗證;陰離子聚合窄分布PHS樹脂試制樣品客戶反饋良好,正在進一步送樣測試。 布局先進封裝等高端電子材料,切入高增長賽道 公司積極研發(fā)推進新產(chǎn)品,例如應用于半導體先進封裝領(lǐng)域的光敏性聚酰亞胺(PSPI)及電鍍銅、鎳、錫銀等電鍍液產(chǎn)品。公司的光敏性聚酰亞胺(PSPI)產(chǎn)品包括350℃高溫固化、250℃低溫固化及180℃超低溫固化三種類型。電鍍銅、鎳、錫銀等電鍍液產(chǎn)品,可以覆蓋RDL、Pillar、μBump、TSV、TIV、大馬士革等工藝,公司部分電鍍液產(chǎn)品在客戶處處于量產(chǎn)化導入驗證階段。公司年產(chǎn)395.2噸半導體先進封裝材料項目,分兩期建設(shè):一期項目投資建設(shè)259t/a半導體先進封裝材料項目,二期項目投資建設(shè)136.2t/a半導體先進封裝材料項目。一期項目已驗收通過,具備量產(chǎn)化能力,二期處于建設(shè)過程中。近期公司高溫PSPI產(chǎn)品收到貿(mào)易商百公斤級訂單,該訂單的產(chǎn)品應用于前制程(應力緩沖層Buffer coat)。 作為半導體封裝領(lǐng)域的“黃金骨架”,PSPI(光敏性聚酰亞胺)承擔著芯片表面保護、凸塊鈍化及重布線層絕緣等核心功能。其獨特優(yōu)勢在于兼具光敏成像能力與極端環(huán)境耐受性(-269℃至400℃),是2.5D/3D封裝、晶圓級封裝(WLP)等先進工藝的必需材料。隨著人工智能算力的迅猛發(fā)展,HBM高帶寬存儲和Chiplet等技術(shù)推動先進封裝需求快速增長,關(guān)鍵材料供應愈發(fā)緊張。全球高端PSPI市場被日本和美國企業(yè)主導。28nm以下制程所需的高規(guī)格材料幾乎由日本東麗、富士膠片、旭化成以及美國HDMicroSystems(杜邦與日立合資)壟斷,技術(shù)壁壘與市場集中度極高。由于進入門檻高,PSPI在國內(nèi)長期依賴進口,成為先進封裝領(lǐng)域的關(guān)鍵“卡脖子”材料。2025年5月,日本旭化成公司發(fā)布關(guān)于PIMEL?供應調(diào)整的通知,指出“由于AI算力需求的快速增長,盡管公司已經(jīng)努力提升產(chǎn)能,但仍無法及時滿足,導致其不得不實施限供措施,以優(yōu)先滿足臺積電等大客戶對這一材料的需求?!痹谡咧С?、技術(shù)突破與市場需求共振下,國內(nèi)廠商有望完成從驗證導入到規(guī)模供應的跨越,真正切入高端市場。 盈利預測和投資評級 我們預計公司2026-2028年營業(yè)收入分別為13、16、18億元,歸母凈利潤分別為0.40、1.38、2.51億元,2027-2028年對應PE分別58、32倍。公司是國內(nèi)少數(shù)布局光刻膠專用電子化學品的企業(yè),技術(shù)和產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋了PCB干膜光刻膠、LCD光刻膠、半導體光刻膠等主要光刻膠種類中的關(guān)鍵原材料品種,并于長興化學、旭化成、RESONAC、住友化學、JSR、DNP、三菱化學、LGC、ARTIENCE、奇美、長春化工等全球知名光刻膠生產(chǎn)商建立了良好的合作關(guān)系;同時公司積極研發(fā)推進新產(chǎn)品,例如應用于半導體先進封裝領(lǐng)域的光敏性聚酰亞胺(PSPI)及電鍍銅、鎳、錫銀等電鍍液產(chǎn)品,公司光敏性聚酰亞胺產(chǎn)品在多家客戶處驗證中,部分電鍍液產(chǎn)品在客戶處進行小批量產(chǎn)品驗證階段,有望帶來新的增
|
|