>> 申萬宏源-華大九天(301269)Q3業(yè)績符合預期,繼續(xù)保持高增長-221024
| 上傳日期: |
2022/10/25 |
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| 700KB |
| 格式: |
pdf 共3頁 |
來源: |
申萬宏源 |
| 評級: |
增持 |
作者: |
寧柯瑜 |
| 下載權限: |
此報告為加密報告 |
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公司公告,前三季度實現營收4.83億元,同比40.04%;歸母凈利潤1.13億元,同比46.88%。業(yè)績符合預期。 22Q3繼續(xù)保持高增長,研發(fā)投入仍然較大。公司單三季度實現營收2.16億元,同比增長33.20%;實現歸母凈利潤7241萬元,同比增長26.81%。國內EDA行業(yè)的持續(xù)增長和公司市場份額的不斷提升帶動了公司軟件銷售業(yè)務收入的持續(xù)增長。22Q3銷售費用、管理費用、研發(fā)費用分別同比增長23.82%、35.19%、53.37%,研發(fā)投入明顯較大。 研發(fā)投入也推動了新產品的誕生。公司在射頻電路設計領域和晶圓制造領域推出了3款EDA新產品。在射頻電路設計EDA領域,推出了射頻電路仿真工具和射頻器件建模工具。射頻電路仿真工具提供了全面的射頻分析功能,可滿足射頻及微波電路設計的仿真需求,同時該仿真工具具有高精度及并行高速等特點,為用戶提供了良好的使用體驗。射頻器件建模工具聚焦于射頻模型參數提取的各個環(huán)節(jié),可廣泛應用于各種工藝、各種射頻器件的模型提取,如CMOS工藝,化合物半導體工藝等。在晶圓制造EDA領域,推出了光刻掩模版布局設計工具。該工具可自動產生光刻掩模版框架,并優(yōu)化晶圓布局以獲得最優(yōu)的晶圓利用率,為光刻掩模版布局設計提供了完備和高效的解決方案。此外,公司物理驗證工具取得了技術突破,性能得到了提升,可更好的滿足存儲器設計及圖像傳感器設計的需求。 華大九天正在崛起。公司的優(yōu)勢在于領域、全流程覆蓋,原因為積累時間久。EDA行業(yè)難以靠時間彎道超車,從產品發(fā)布到客戶應用到性能提升需要分別2-3年的時間,不可一蹴而就,本土大客戶幫助迭代將縮減開發(fā)時間。公司從2009年成立奮起直追,也是每2-3年發(fā)布重大產品。再進一步而言,公司突破了關鍵的技術,如平面搜索算法、大規(guī)模矩陣智能求解、倒序樹算法,實現產品力達到海外水平。模擬產品能達到28nm,數字能達到5nm技術。 公司未來的發(fā)展戰(zhàn)略清晰:模擬類全面完善,數字類補全關鍵點工具。全流程上補齊領域,借助模擬的優(yōu)勢完善射頻、存儲、光電等領域,同時解決對先進工藝的支持問題。數字難度更大,公司的策略是抓關鍵點工具,重點研發(fā)為綜合及驗證工具。 維持盈利預測,維持“增持”評級。預計2022-2024年營業(yè)收入為7.87、10.66、14.42億元,歸母凈利潤為1.90、2.61、3.55億元;對應PE為291x、212x、157x。 風險提示:EDA涉及數學、物理、半導體、計算機、軟件等多門學科,技術突破難度高,新產品發(fā)展可能不及預期。對于頭部客戶突破緩慢,也將影響公司的成長速度。
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