>> 光大證券-半導體設備行業(yè)跟蹤：盛美進軍前道涂膠顯影設備，產(chǎn)品平臺化再前進一步-230102
| 上傳日期： |
2023/1/3 |
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來源： |
光大證券 |
| 評級： |
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作者： |
楊紹輝 |
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盛美上海進軍前道涂膠顯影Track市場。根據(jù)盛美上海官方微信公眾號，盛美上海首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的前道ArF工藝涂膠顯影Track設備Ultra LITH成功出機，順利向中國國內(nèi)客戶交付，該設備由盛美半導體設備(亞太)制造中心完成出貨。
涂膠顯影技術(shù)是光刻工序的重要環(huán)節(jié)之一。光刻工序涂膠顯影設備是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵處理設備，主要與光刻機配合進行作業(yè)，通過機械手使晶圓在各系統(tǒng)間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程。涂膠/顯影機的性能直接影響著曝光圖案、刻蝕、離子注入等工藝。
盛美上海將于2023年推出i-line型號設備，且已開始著手研發(fā)KrF型號設備。參考芯源微公告、中國國際招標網(wǎng)，涂膠顯影設備可分為offline和inline兩大類，其中offline設備不與光刻機聯(lián)機作業(yè)，主要包括前道Barc（抗反射層）涂膠機、PI涂膠顯影機；inline設備與光刻機聯(lián)機作業(yè)，根據(jù)主流光刻技術(shù)發(fā)展路線可分為I-line、KrF、ArF、ArFi、EUV等光刻膠的涂膠顯影工藝。從盛美的產(chǎn)品規(guī)劃看，未來將至少覆蓋I-line、KrF、ArF三種以上的涂膠顯影工藝。
前道涂膠顯影占WFE市場的4%。根據(jù)中微業(yè)績說明會資料，2021年全球前道涂膠顯影設備市場規(guī)模36.72億美元，在全球WFE市場占比4.0%。參考SEMI數(shù)據(jù)2021年中國大陸半導體設備市場占全球半導體設備的29%，中國大陸涂膠顯影Track設備市場規(guī)模約10.65億美元。
國內(nèi)外涂膠顯影Track市場主要被TEL壟斷。根據(jù)芯源微公告，光刻工序涂膠顯影設備的供應商主要包括日本TEL、日本DNS、德國SUSS、中國臺灣ELS、韓國CND等。根據(jù)TEL公告，2021年TEL在全球涂膠顯影市場的市占率為89%。根據(jù)中國國際招標網(wǎng)，按采購數(shù)量計，中國大陸本土產(chǎn)線的12英寸涂膠顯影設備當中日本TEL占96%、芯源微占3.5%、日本DNS占0.7%。TELLITHIUS系列是目前主流的涂膠顯影Track設備。
芯源微主導涂膠顯影Track設備的國產(chǎn)化，盛美上海、眾鴻電子緊隨其后。根據(jù)芯源微2022年中報，芯源微offline、I-line、KrF機臺均實現(xiàn)批量銷售，前道涂膠顯影機新訂單同比大幅增長，其中I-line、KrF涂膠顯影機獲多家頭部晶圓廠的小批量重復訂單，芯源微客戶包括中芯京城、上海華力、長江存儲、合肥長鑫、武漢新芯、士蘭集科、上海積塔、株洲中車、青島芯恩、中芯紹興、中芯寧波、昆明京東方等。2022年12月17日，芯源微發(fā)布新產(chǎn)品ArFi高產(chǎn)能涂膠顯影機，可全面覆蓋I-line、KrF、ArF dry、ArF浸沒式等多種光刻技術(shù)。根據(jù)盛美上海官方微信公眾號，盛美上海已向中國國內(nèi)客戶交付首臺前道ArF工藝涂膠顯影Track設備，并將于2023年推出i-line型號設備，且已開始著手研發(fā)KrF型號設備。根據(jù)眾鴻官方微信公眾號，2022年12月眾鴻電子接到常州承芯半導體的涂膠顯影機正式訂單。
產(chǎn)能致勝，盛美上海涂膠顯影Track設將達到300片/h。盛美此次出機的Track設備專為300毫米晶圓而設計，共有4個適用于12英寸晶圓的裝載口，8個涂膠腔體、8個顯影腔體，設備腔體溫度可精準控制在23°C±0.1°C，烘烤范圍為50°C至250°C，晶圓破損率低于1/50000。全球?qū)＠暾埍Ｗo的全新結(jié)構(gòu)設計還可拓展支持12個涂膠腔體及12個顯影腔體，產(chǎn)能可達300片/h，在配備更多涂膠和顯影腔體的條件下還能達到400片/h以上。
盛美上海已構(gòu)建PECVD+涂膠顯影+爐管（ALD、LPCVD等）+銅電鍍+清洗等五大類產(chǎn)品平臺。根據(jù)控股股東（ACMResearch）公司資料，新產(chǎn)品PECVD、Track推出后，盛美可覆蓋目標市場規(guī)模從原有的80億美元，增加至160億美元。盛美持續(xù)的新產(chǎn)品研發(fā)打開公司長期成長空間。
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