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浙商證券-電子行業(yè)點(diǎn)評(píng)報(bào)告-Nvidia產(chǎn)業(yè)鏈·計(jì)算光刻:持續(xù)推動(dòng)光刻工藝突破-230322
上傳日期:
2023/3/23
大?。?/td>
441KB
格式:
pdf 共2頁(yè)
來源:
浙商證券
評(píng)級(jí):
看好
作者:
蔣高振
,
厲秋迪
行業(yè)名稱:
電子
下載權(quán)限:
此報(bào)告為加密報(bào)告,僅限高級(jí)會(huì)員查看
NVIDIA于2023年開發(fā)者大會(huì)推出專為計(jì)算光刻開發(fā)的軟件庫(kù)cuLitho,根據(jù)英偉達(dá)信息,通過使用光刻計(jì)算庫(kù)cuLitho,計(jì)算光刻速度將提升40倍,GPU加速后生產(chǎn)光掩模的計(jì)算光刻工作用時(shí)可以從幾周減少到八小時(shí),與此同時(shí),功耗降低9倍,光刻計(jì)算使2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)成為可能。
計(jì)算光刻:解決衍射像差、增強(qiáng)光刻分辨率的核心方法之一。
光刻是通過曝光、顯影、刻蝕等技術(shù)將掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)移至晶圓的圖形精細(xì)加工技術(shù),隨著光刻及芯片設(shè)計(jì)制造技術(shù)發(fā)展,晶圓上晶體管的互聯(lián)間距縮小,當(dāng)晶體管的尺寸變得比光刻機(jī)所用波長(zhǎng)近似或還要小的時(shí)候,由于衍射效應(yīng)的存在晶體管成像就會(huì)變得模糊。計(jì)算光刻便是增強(qiáng)分辨率解決方法之一。計(jì)算光刻屬于EDA的一種,用于晶圓制造環(huán)節(jié),具體而言就是通過計(jì)算機(jī)模擬、仿真光刻中的光學(xué)和化學(xué)過程,預(yù)測(cè)晶圓上的曝光圖形,在半導(dǎo)體制程的開發(fā)階段提供光源優(yōu)化、掩模版圖形修正、缺陷的預(yù)判和修正方案分析,通過增大芯片制造工藝窗口從而提高產(chǎn)品良率和生產(chǎn)效率。對(duì)于90 nm以下節(jié)點(diǎn),必須采用計(jì)算光刻技術(shù)來提升光刻系統(tǒng)的成像性能,否則將無法實(shí)現(xiàn)集成電路量產(chǎn)。因此,計(jì)算光刻是支撐光刻工藝節(jié)點(diǎn)不斷推進(jìn)的關(guān)鍵電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)仿真技術(shù)。
cuLitho:NVIDIA發(fā)布專用軟件庫(kù),光刻/掩模版生產(chǎn)效率升級(jí)。
隨著晶圓制程微縮程度持續(xù)提升,掩膜板復(fù)雜度隨之變高,對(duì)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、計(jì)算光刻的需求同樣也將快速提升,F(xiàn)oundry廠現(xiàn)有算力不足以支撐新的芯片技術(shù),預(yù)計(jì)未來Foundry對(duì)算力的需求會(huì)大幅提升,與先進(jìn)晶圓廠配套的數(shù)據(jù)中心需求同樣快速成長(zhǎng)。英偉達(dá)與臺(tái)積電、ASML、新思科技三大半導(dǎo)體巨頭合作,將加速運(yùn)算技術(shù)用于芯片光刻的計(jì)算光刻中,制造同樣的芯片,從在CPU上運(yùn)行變?yōu)樵贕PUcuLitho上運(yùn)行,時(shí)間從兩周變?yōu)榱?h,效率提高了21倍,cuLitho軟件庫(kù)允許500個(gè)基于DGXH100 GPU的數(shù)據(jù)中心系統(tǒng)執(zhí)行與4萬個(gè)基于CPU的系統(tǒng)相同的工作,可將計(jì)算光刻的速度提升40倍,即意味著GPU加速后,生產(chǎn)光掩模的計(jì)算光刻工作用時(shí)可以從幾周減少到八小時(shí)。從能耗方面考慮,cuLitho軟件庫(kù)在計(jì)算光刻的速度提升40倍的同時(shí)功耗降低9倍,將功率從35MW減少至5MW,將減少對(duì)電力和空間需求以及對(duì)環(huán)境的影響。
英偉達(dá):算力算法雙輪驅(qū)動(dòng)AI行業(yè)發(fā)展,供應(yīng)鏈有望充分受益。
英偉達(dá)作為全球GPU龍頭企業(yè),在計(jì)算芯片硬件領(lǐng)域一家獨(dú)大,同時(shí)在軟件端,英偉達(dá)針對(duì)生物制藥、化學(xué)、氣候預(yù)測(cè)、量子計(jì)算等領(lǐng)域同樣會(huì)發(fā)布一些中間件和庫(kù),在專用算法方面同樣具備優(yōu)勢(shì)。我們認(rèn)為,cuLitho軟件庫(kù)能推動(dòng)晶圓廠、掩模版廠以及EDA企業(yè)在光刻工藝進(jìn)一步提升效率并更好地協(xié)同發(fā)展,建議關(guān)注晶圓制造、掩模版、EDA等領(lǐng)域的計(jì)算光刻產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)企業(yè)。
相關(guān)標(biāo)的:英偉達(dá)(NVDA.O)、阿斯麥(ASML.O)、臺(tái)積電(TSM.N)、新思科技(SNPS.O)。
風(fēng)險(xiǎn)提示
宏觀經(jīng)濟(jì)不及預(yù)期;下游終端復(fù)蘇不及預(yù)期;國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程不及預(yù)期;中美貿(mào)易摩擦升級(jí)風(fēng)險(xiǎn)。
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