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事項：
　　2023年3月30日，公司發(fā)布2022年度報告：
　　1）2022年：公司實現(xiàn)營業(yè)收入47.40億元，同比+52.50%；毛利率45.74%，同比+2.38pct；歸母凈利潤11.70億元，同比+15.66%；扣非后歸母凈利潤9.19億元，同比+183.44%；
　　 2）2022Q4：營業(yè)收入16.97億元，同比/環(huán)比+63.88%/+58.39%；毛利率46.15%，同比/環(huán)比+1.44pct/+0.37pct；歸母凈利潤3.77億元，同比/環(huán)比-19.75%/+15.88%；扣非后歸母凈利潤2.76億元，同比/環(huán)比+72.79%/+35.60%。
　　評論：
　　營業(yè)收入及新簽訂單持續(xù)高增長，公司盈利能力正在快速釋放。公司前道刻蝕設備競爭優(yōu)勢明顯，MOCVD設備在Mini-LED中快速放量，2022年實現(xiàn)營業(yè)收入47.40億元，同比+52.50%；其中刻蝕設備收入31.47億元，同比+57.07%；MOCVD設備收入7.00億元，同比+39.05%。公司歸母凈利潤增速較慢主要是政府補助、公允價值變動收益和處置收益較2021年同期下滑較多所致，扣非后歸母凈利潤增速遠高于收入增長。訂單維度，公司2022年新簽訂單金額同比+53.0%至63.2億元，2022年12月末合同負債由9月末的19.69億元環(huán)比增長至21.95億元，在手訂單充沛料將支撐公司未來業(yè)績高增長。
　　外部貿易環(huán)境變化加速設備國產(chǎn)化，公司刻蝕設備將有望持續(xù)受益。半導體設備國產(chǎn)化浪潮開啟，以中微公司代表的國內半導體設備廠商的份額顯著提升。公司CCP設備和ICP設備正快速突破，在邏輯產(chǎn)線中，公司基本實現(xiàn)刻蝕工藝全覆蓋；在3DNAND中，公司的等離子體刻蝕設備可應用于64層和128層的量產(chǎn)，同時正在開發(fā)新一代設備以滿足極高深寬比的刻蝕設備和工藝。公司研發(fā)能力較強，且持續(xù)保持高強度研發(fā)投入進行核心技術創(chuàng)新，在存儲和刻蝕產(chǎn)線設備國產(chǎn)化過程中，公司相關設備將提供重要助力。
　　設備替代急迫性+確定性，國產(chǎn)替代背景下公司戰(zhàn)略地位凸顯。刻蝕是當前國內最卡脖子的環(huán)節(jié)之一，目前尚未實現(xiàn)國產(chǎn)化的環(huán)節(jié)如all in one刻蝕、極高深寬比等均由公司在進行技術攻關，并取得良好進展，下游晶圓廠急需國產(chǎn)化，預計公司后續(xù)將有望迎來產(chǎn)品快速突破和份額大幅提升。公司是國內刻蝕設備龍頭，新設備如LPCVD已通過客戶驗證，ALD、EPI正在穩(wěn)步推進中，公司份額天花板正在快速提升，未來成長空間正逐步打開。
　　投資建議：全球半導體設備市場持續(xù)高景氣，公司將顯著受益于刻蝕設備需求增長；同時Mini LED技術趨于成熟，下游LED芯片廠商積極擴產(chǎn)，公司MOCVD設備業(yè)務將有望迎來業(yè)績拐點。我們維持2023-2024年營業(yè)收入預期為61.0/81.4億元，新增2025年收入預期105.1億元，結合公司歷史估值區(qū)間及行業(yè)平均估值水平，給予2023年17倍PS，對應目標價為168.3元，維持“強推”評級。
　　風險提示：國際貿易形勢變化；下游客戶擴產(chǎn)放緩；上游零部件供應短缺。