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業(yè)績(jī)持續(xù)增長(zhǎng)：22年?duì)I收同比增長(zhǎng)53%至47.4億元，扣非歸母凈利潤(rùn)增長(zhǎng)183%至9.2億元，新簽訂單增長(zhǎng)53%達(dá)63.2億元。22年公司研發(fā)投入增長(zhǎng)28%達(dá)9.3億元，占收入比例為20%。截至22年底公司共有超過3311個(gè)反應(yīng)臺(tái)在客戶106條芯片生產(chǎn)線全面量產(chǎn)。23Q1營(yíng)收同比增長(zhǎng)29%至12.2億元，歸母凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)135%至2.8億元，業(yè)績(jī)依舊亮眼。
　　刻蝕設(shè)備擴(kuò)大優(yōu)勢(shì)：23Q1刻蝕設(shè)備收入為8.1億元，同比增長(zhǎng)14%，毛利率47.3%。CCP刻蝕設(shè)備：在國(guó)際最先進(jìn)的5納米芯片生產(chǎn)線及下一代更先進(jìn)的生產(chǎn)線上，公司CCP刻蝕設(shè)備實(shí)現(xiàn)了多次批量銷售，已有超過200臺(tái)反應(yīng)臺(tái)在生產(chǎn)線合格運(yùn)轉(zhuǎn)。用于先進(jìn)邏輯器件的雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)多次批量銷售，用于邏輯器件大馬士革刻蝕及用于極高深寬比存儲(chǔ)應(yīng)用的刻蝕機(jī)開發(fā)進(jìn)展順利，將陸續(xù)進(jìn)入市場(chǎng)。
　　ICP刻蝕設(shè)備：22年實(shí)現(xiàn)了100多個(gè)刻蝕工藝的量產(chǎn)，單臺(tái)機(jī)系列產(chǎn)品安裝腔體數(shù)已達(dá)到297臺(tái)，雙臺(tái)機(jī)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并取得重復(fù)訂單。
　　 MOCVD應(yīng)用領(lǐng)域不斷延伸：23Q1公司MOCVD設(shè)備收入同比增長(zhǎng)300%至1.7億元，毛利率40.1%。截止22年底，累計(jì)MOCVD出貨量超過500腔。公司保持氮化鎵基MOCVD市場(chǎng)領(lǐng)先地位，在Mini-LED顯示外延片設(shè)備領(lǐng)域國(guó)際領(lǐng)先，針對(duì)Micro-LED應(yīng)用的專用MOCVD設(shè)備正在開發(fā)。碳化硅功率器件外延設(shè)備今年將交付樣機(jī)至客戶端開展生產(chǎn)驗(yàn)證，產(chǎn)品線進(jìn)一步豐富。
　　薄膜沉積和量測(cè)設(shè)備可期：首臺(tái)CVD鎢設(shè)備付運(yùn)到關(guān)鍵存儲(chǔ)客戶端驗(yàn)證評(píng)估，EPI設(shè)備已進(jìn)入樣機(jī)的制造和調(diào)試階段，應(yīng)用于高端存儲(chǔ)和邏輯器件的ALD氮化鈦設(shè)備已進(jìn)入實(shí)驗(yàn)室測(cè)試階段。公司通過投資睿勵(lì)34.8%股權(quán)布局前道量/檢測(cè)領(lǐng)域，近期公告將增持睿勵(lì)6.8%股權(quán)，光學(xué)檢測(cè)設(shè)備22年市場(chǎng)規(guī)模825億元，僅次于光刻、薄膜和刻蝕設(shè)備，未來前景廣闊。
　　我們預(yù)測(cè)公司2023-2025年歸母凈利潤(rùn)分別為15.1、19.9、25.5億元（原23-24年預(yù)測(cè)分別為14.0、19.6億元，主要上調(diào)了刻蝕設(shè)備、MOCVD的營(yíng)收和毛利率），采用絕對(duì)估值法（FCFF），給予238.44元目標(biāo)價(jià)，維持買入評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示
　　大基金等股東減持；刻蝕設(shè)備國(guó)產(chǎn)化不及預(yù)期；MiniLED需求不及預(yù)期；政府補(bǔ)助下滑風(fēng)險(xiǎn)；零部件斷供風(fēng)險(xiǎn)。