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事項：
　　 2023年4月28日，公司發(fā)布2023年第一季度報告：
　　公司2023Q1實現(xiàn)營業(yè)收入12.23億元，同比+28.86%；毛利率45.87%，同比+0.40pct；歸母凈利潤2.75億元，同比+134.98%；扣非后歸母凈利潤2.28億元，同比+22.22%。
　　評論：
　　業(yè)績持續(xù)高增長，在手訂單充沛支撐公司未來業(yè)績加速放量。公司前道刻蝕設備市占率持續(xù)提升，MOCVD設備在Mini-LED中快速放量，2023Q1實現(xiàn)營業(yè)收入12.23億元，同比+28.86%；毛利率45.87%，同比+0.40pct。其中刻蝕設備收入8.14億元，同比+13.94%，毛利率達到47.29%；MOCVD設備收入1.67億元，同比+300.48%，毛利率達到40.09%。公司歸母凈利潤增速較快主要是由于股權(quán)投資和政府補助產(chǎn)生的非經(jīng)常性損益較去年同期增長較多。在手訂單方面，公司2023年3月末合同負債由2022年12月末的21.95億元增長至23.20億元，在手訂單充沛將支撐公司未來業(yè)績持續(xù)高增長。
　　外部貿(mào)易環(huán)境變化加速設備國產(chǎn)化，公司刻蝕設備將有望持續(xù)受益。半導體設備國產(chǎn)化浪潮開啟，以中微公司代表的國內(nèi)半導體設備廠商的份額顯著提升。公司CCP設備和ICP設備正快速突破，在邏輯產(chǎn)線中，公司基本實現(xiàn)刻蝕工藝全覆蓋；在3DNAND中，公司的等離子體刻蝕設備可應用于64層和128層的量產(chǎn)，同時正在開發(fā)新一代設備以滿足極高深寬比的刻蝕設備和工藝。公司研發(fā)能力較強，且持續(xù)保持高強度研發(fā)投入進行核心技術(shù)創(chuàng)新，在存儲和刻蝕產(chǎn)線設備國產(chǎn)化過程中，公司相關(guān)設備將提供重要助力。
　　設備替代急迫性+確定性，國產(chǎn)替代背景下公司戰(zhàn)略地位凸顯。刻蝕是當前國內(nèi)最卡脖子的環(huán)節(jié)之一，目前尚未實現(xiàn)國產(chǎn)化的環(huán)節(jié)如all in one刻蝕、極高深寬比等均由公司在進行技術(shù)攻關(guān)，并取得良好進展，下游晶圓廠急需國產(chǎn)化，預計公司后續(xù)將有望迎來產(chǎn)品快速突破和份額大幅提升。公司是國內(nèi)刻蝕設備龍頭，新設備如LPCVD已通過客戶驗證，ALD、EPI正在穩(wěn)步推進中。此外，公司本次公告擬受讓上海睿勵6.7575%股權(quán)，受讓完成后公司持股比例將提升至41.5078%。公司份額天花板正在快速提升，未來成長空間正逐步打開。
　　投資建議：全球半導體設備市場持續(xù)高景氣，公司將顯著受益于刻蝕設備需求增長；同時Mini LED技術(shù)趨于成熟，下游LED芯片廠商積極擴產(chǎn)，公司MOCVD設備業(yè)務有望加速放量。我們維持2023-2025年營業(yè)收入預期為61.0/81.4/105.1億元，結(jié)合公司歷史估值區(qū)間及行業(yè)平均估值水平，給予2023年22倍PS，對應目標價為217.3元，維持“強推”評級。
　　風險提示：國際貿(mào)易形勢變化；下游客戶擴產(chǎn)放緩；上游零部件供應短缺。