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事件：公司發(fā)布2025年三季報(bào)，前三季度公司實(shí)現(xiàn)收入80.63億元，同比增長(zhǎng)46.40%；歸母凈利潤(rùn)12.11億元，同比增長(zhǎng)32.66%。
　　刻蝕設(shè)備產(chǎn)品不斷取得進(jìn)步：公司刻蝕類(lèi)高端產(chǎn)品新增付運(yùn)量顯著提升，先進(jìn)邏輯器件中段關(guān)鍵刻蝕工藝和先進(jìn)存儲(chǔ)器件的超高深寬比刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。下一代90比1超高深寬比CCP介質(zhì)刻蝕設(shè)備即將進(jìn)入市場(chǎng)；ICP方面，適用于下一代邏輯和存儲(chǔ)客戶用ICP刻蝕設(shè)備和化學(xué)氣相刻蝕設(shè)備開(kāi)發(fā)取得了良好進(jìn)展。加工的精度和重復(fù)性已達(dá)到單原子水平。
　　薄膜設(shè)備技術(shù)突破，收入急速增長(zhǎng)：公司為先進(jìn)存儲(chǔ)器件和邏輯器件開(kāi)發(fā)的LPCVD、ALD等多款薄膜設(shè)備已經(jīng)順利進(jìn)入市場(chǎng)，并且設(shè)備性能完全達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平，薄膜設(shè)備的覆蓋率不斷增加。公司硅和鍺硅外延EPI設(shè)備已順利運(yùn)付客戶端進(jìn)行量產(chǎn)驗(yàn)證，并且獲得客戶高度認(rèn)可。前三季度公司LPCVD和ALD等薄膜設(shè)備收入4.03億元，同比增長(zhǎng)約1332.69%。
　　繼續(xù)加大研發(fā)投入，擴(kuò)大產(chǎn)品品類(lèi)：2025年公司顯著加大研發(fā)力度，以盡快補(bǔ)短板，擴(kuò)充新產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)趕超，為持續(xù)增長(zhǎng)打好基礎(chǔ)。2025年前三季度公司研發(fā)支出較上年同期增長(zhǎng)9.79億元，同比增長(zhǎng)約63.44%，研發(fā)支出占公司營(yíng)業(yè)收入比例約為31.29%。
　　投資建議：我們預(yù)計(jì)公司2025-2027年的營(yíng)業(yè)收入113.36/149.57/191.97億元，歸母凈利潤(rùn)22.29 /31.08 /41.61億元，對(duì)應(yīng)PE分別為84.3/60.5/45.1倍，維持“增持”評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：半導(dǎo)體市場(chǎng)景氣度下行；海外供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)；國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備需求放緩；高端設(shè)備研發(fā)進(jìn)度不及預(yù)期；行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇。