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Q3收入、利潤均同環(huán)比高增，規(guī)模效應(yīng)帶動費(fèi)用率下降，維持“買入”評級
　　2025年前三季度，公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入42.20億元，yoy+85.27%，主因產(chǎn)品工藝覆蓋面不斷擴(kuò)大，產(chǎn)品性能及核心競爭力進(jìn)一步增強(qiáng)，公司先進(jìn)制程的驗(yàn)證機(jī)臺進(jìn)入規(guī)?；慨a(chǎn)階段；實(shí)現(xiàn)毛利率33.28%，同比下滑10.31pcts，主因一季度確認(rèn)收入的新產(chǎn)品、新工藝的設(shè)備在客戶驗(yàn)證過程成本較高，毛利率較低，隨著公司新產(chǎn)品驗(yàn)證機(jī)臺完成技術(shù)導(dǎo)入并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)突破和持續(xù)優(yōu)化，2025年第二和第三季度毛利率已顯著改善，未來有望繼續(xù)穩(wěn)步回升；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤5.57億元，同比+105.14%，主因Q3收入放量與規(guī)模效應(yīng)帶動費(fèi)用率下滑。
　　單季度而言，公司Q3實(shí)現(xiàn)收入22.66億元，yoy+124.15%，qoq+81.94%；實(shí)現(xiàn)毛利率34.42%，環(huán)比下滑4.4pcts；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤4.62億元，同比+225.07%，環(huán)比+91.60%，主因公司三季度收入放量，以及規(guī)模效應(yīng)帶動費(fèi)用率下降。
　　公司自2025年Q1開始多類先進(jìn)制程機(jī)臺的批量驗(yàn)證，Q3即實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)，進(jìn)展超出預(yù)期，因此，我們上修公司盈利預(yù)測，預(yù)計(jì)2025-2027年將分別實(shí)現(xiàn)營收64/86/106億元（前值58/77/95億元），實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤10.2/20.2/27.3億元（前值9.3/14.9/19.5億元），當(dāng)前股價(jià)對應(yīng)PE分別為90.1/45.4/33.6倍，維持“買入”評級。
　　先進(jìn)制程機(jī)臺進(jìn)入規(guī)模化量產(chǎn)階段，工藝覆蓋程度持續(xù)提升
　　公司產(chǎn)品競爭力持續(xù)提升，基于新型設(shè)備平臺（PF-300TPlus和PF-300M）和新型反應(yīng)腔（pX和Supra-D）的PECVDStack（ONO疊層）、ACHM以及PECVDBianca、ALDSiCO等先進(jìn)制程的驗(yàn)證機(jī)臺順利通過客戶認(rèn)證，進(jìn)入規(guī)模化量產(chǎn)階段，進(jìn)展超于預(yù)期。
　　薄膜沉積設(shè)備方面公司已布局的種類涵蓋PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD及Flowable CVD，CVD領(lǐng)域國內(nèi)領(lǐng)先，伴隨各類先進(jìn)制程機(jī)臺開始規(guī)模量產(chǎn)，公司有望在未來的機(jī)臺改良優(yōu)化中占據(jù)領(lǐng)先地位，競爭實(shí)力有望不斷加強(qiáng)。
　　另一方面，公司布局三維集成設(shè)備，目前已經(jīng)推出多款W2W、D2W鍵合設(shè)備及其配套設(shè)備，契合先進(jìn)封裝的大趨勢，且有望在新一代存儲器件制造工藝中得到運(yùn)用（例如下一代4F2 DRAM將采用CBA工藝，對鍵合設(shè)備提出需求），有望為公司貢獻(xiàn)更長久的增長動力。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：下游晶圓廠延遲擴(kuò)產(chǎn)，公司新產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)度不及預(yù)期。