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營收穩(wěn)步提升，盈利明顯改善，維持“買入”評(píng)級(jí)
　　2025年公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入19.37億元/yoy+31.28%；歸母凈利潤3.01億元/yoy+71.12%；扣非歸母凈利潤2.74億元/yoy+70.48%。銷售毛利率41.00%/yoy+1.71pcts；銷售凈利率15.54%/yoy+3.65pcts，盈利能力明顯改善。我們看好公司在電鍍液、清洗液、刻蝕液、研磨液以及光刻膠五大布局下的平臺(tái)化發(fā)展前景，上修2026-2027年并新增2028年盈利預(yù)測，預(yù)計(jì)2026-2028年歸母凈利潤3.94/5.26/6.80億元（2026-2027原值為3.21/4.12億元），當(dāng)前股價(jià)對(duì)應(yīng)63.8/47.7/36.9倍PE，維持“買入”評(píng)級(jí)。
　　泛濕電子化學(xué)品平臺(tái)型供應(yīng)商，國產(chǎn)化浪潮充分受益
　　2025年公司半導(dǎo)體業(yè)務(wù)營收15.17億元/yoy+46.50%，其中集成電路材料14.79億元/yoy+48.15%。分產(chǎn)品看：電鍍液及添加劑：受先進(jìn)封裝需求拉動(dòng)，銷售額同比增長約40%；清洗液：銅/鋁制程清洗系列產(chǎn)品銷售額同比增長50%+；蝕刻液：技術(shù)持續(xù)迭代并拓展至3DNAND應(yīng)用，銷售額同比增長80%+；CMP研磨液：先進(jìn)制程Poly slurry產(chǎn)品已進(jìn)入國內(nèi)主流晶圓公司產(chǎn)線，銷售額同比增長約160%；光刻膠：多款產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)批量銷售，銷售規(guī)模同比增長30%+。近期“十五五規(guī)劃綱要”發(fā)布，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略或向“全鏈條突破、成熟與先進(jìn)并舉、應(yīng)用與生態(tài)協(xié)同”發(fā)展。公司已成為泛濕化學(xué)品平臺(tái)型供應(yīng)商，隨國內(nèi)先進(jìn)制程與先進(jìn)存儲(chǔ)相繼進(jìn)入擴(kuò)產(chǎn)上行周期，有望持續(xù)受益于產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化趨勢。
　　三大生產(chǎn)基地深化“研產(chǎn)供”護(hù)城河，產(chǎn)能倍增支撐國產(chǎn)替代加速
　　公司已在長三角布局松江、合肥、上海化工區(qū)三大生產(chǎn)基地：松江本部規(guī)劃新建年產(chǎn)5萬噸集成電路關(guān)鍵工藝材料及總部、研發(fā)中心項(xiàng)目，已實(shí)現(xiàn)年內(nèi)立項(xiàng)并開工建設(shè)；合肥新陽定增項(xiàng)目產(chǎn)能從原有1.5w噸擴(kuò)產(chǎn)至4.35萬噸，項(xiàng)目已完成立項(xiàng)及環(huán)安評(píng)審批，核心產(chǎn)線建設(shè)基本就位；上?；^(qū)基地攻堅(jiān)光刻膠，穩(wěn)步推進(jìn)高端光刻膠及配套試劑產(chǎn)能項(xiàng)目，公司正積極開發(fā)3DNAND、DRAM及邏輯先進(jìn)制程中使用的光刻膠，ArF浸沒式光刻膠已取得銷售訂單。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：研發(fā)及客戶認(rèn)證不及預(yù)期、半導(dǎo)體周期波動(dòng)、行業(yè)競爭加劇。