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光大證券-半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)跟蹤:盛美上海進(jìn)軍PECVD,助力薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化并打開(kāi)成長(zhǎng)空間-221213
上傳日期:
2022/12/14
大小:
299KB
格式:
pdf 共2頁(yè)
來(lái)源:
光大證券
評(píng)級(jí):
買入
作者:
楊紹輝
下載權(quán)限:
此報(bào)告為加密報(bào)告,僅限高級(jí)會(huì)員查看
繼涂膠顯影設(shè)備后,盛美上海進(jìn)軍PECVD市場(chǎng)。根據(jù)盛美上海官方微信公眾號(hào),盛美上海宣布推出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的Ultra PmaxTM等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備,拓展了一個(gè)重要的全新產(chǎn)品分類。盛美上海預(yù)計(jì)將在幾周內(nèi)向中國(guó)的一家集成電路客戶交付其首臺(tái)PECVD設(shè)備。
PECVD是薄膜沉積工藝中運(yùn)用最廣泛的設(shè)備種類。薄膜沉積技術(shù)包括CVD、PVD、化學(xué)電鍍等,而CVD包括APCVD、HDPCVD、PECVD、LPCVD、SACVD、FCVD、PEALD、TALD等。相比傳統(tǒng)的CVD設(shè)備,PECVD設(shè)備在相對(duì)較低的反應(yīng)溫度下形成高致密度、高性能薄膜,不破壞已有薄膜和已形成的底層電路,實(shí)現(xiàn)更快的薄膜沉積速度,是芯片制造薄膜沉積工藝中運(yùn)用最廣泛的設(shè)備種類。
PECVD占薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)的1/3,占WFE市場(chǎng)的7.5%。根據(jù)微導(dǎo)納米招股說(shuō)明書(shū),2020年全球薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)中,各類設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模(銷售額口徑)占比分別為:PECVD占34%、PVD占21%、ALD占13%,參考中微業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)資料,2021年薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模占WFE的22%,由此推算PECVD約占WFE的7.5%。2021年全球薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模207億美元,對(duì)應(yīng)PECVD全球市場(chǎng)規(guī)模約為70億美元。參考2021年中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)占全球半導(dǎo)體設(shè)備的29%,中國(guó)大陸PECVD設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約20億美元。
PECVD設(shè)備主要被Applied Materials、Lam Research、拓荊科技所壟斷。根據(jù)中國(guó)國(guó)際招標(biāo)網(wǎng),本土產(chǎn)線上的PECVD供應(yīng)商主要包括Applied Materials、Lam Research、拓荊科技,其中Lam Research占比更高,其次是AppliedMaterials,拓荊科技實(shí)現(xiàn)12英寸PECVD的國(guó)產(chǎn)化。Lam Research的VECTOR系列、Applied Materials的PRODUCER系列是PECVD的主流型號(hào)。
拓荊科技主導(dǎo)PECVD國(guó)產(chǎn)化,盛美上海、陛通半導(dǎo)體緊隨其后。拓荊科技開(kāi)發(fā)12英寸PECVD設(shè)備PF-300T、PF-300T eX、PF-300T pX、NF-300H等型號(hào),2022年前三季度收入9.92億元,同比增長(zhǎng)165%,主要客戶包括長(zhǎng)江存儲(chǔ)、中芯國(guó)際、華虹、芯恩、上海積塔等。根據(jù)陛通官方信公眾號(hào),2021年10月15日由陛通半導(dǎo)體研發(fā)制造的首臺(tái)12英寸(300mm)高性能PECVD化學(xué)氣相薄膜沉積設(shè)備,順利出機(jī)正式交付國(guó)內(nèi)某大型集成電路知名企業(yè)。根據(jù)盛美上海官方微信公眾號(hào),2022年12月12日盛美上海推出Ultra Pmax等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備。
盛美上海的PECVD擁有技術(shù)差異化。Ultra Pmax PECVD設(shè)備配置自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的腔體、氣體分配裝置和卡盤(pán)設(shè)計(jì),能夠提供更好的薄膜均勻性,更小的薄膜應(yīng)力和更少的顆粒特性。該設(shè)備采用單腔體模塊化設(shè)計(jì),有兩種配置:一種可以配置1-3腔體模塊,適合極薄膜層或快速工藝步驟;另一種可以配置4-5腔體模塊,在優(yōu)化產(chǎn)能的同時(shí),支持厚膜沉積及更長(zhǎng)的工藝時(shí)間。
盛美上海已構(gòu)建PECVD+涂膠顯影+爐管(ALD、LPCVD等)+銅電鍍+清洗等五大類產(chǎn)品平臺(tái)。根據(jù)控股股東(ACMResearch)公司資料,新產(chǎn)品PECVD、Track推出后,盛美可覆蓋目標(biāo)市場(chǎng)規(guī)模從原有的80億美元,增加至160億美元。盛美持續(xù)的新產(chǎn)品研發(fā)打開(kāi)公司長(zhǎng)期成長(zhǎng)空間。
風(fēng)險(xiǎn)分析:外部環(huán)境不確定性風(fēng)險(xiǎn),技術(shù)迭代風(fēng)險(xiǎn),美國(guó)進(jìn)一步限制關(guān)鍵設(shè)備和零部件出口的風(fēng)險(xiǎn)。
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