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光刻是半導(dǎo)體生產(chǎn)中最重要的工藝步驟：光刻是半導(dǎo)體器件制造的最核心步驟，直接決定集成電路的性能和良率。光刻機(jī)的核心工藝指標(biāo)包括：分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及單位時(shí)間產(chǎn)能等。主流的光刻機(jī)均采用浸沒(méi)系統(tǒng)、可編程光照、畸變修正、熱效應(yīng)修正、對(duì)準(zhǔn)與表面測(cè)量等高難度技術(shù)。光刻設(shè)備均具有高技術(shù)附加值,毛利率超過(guò)50%。
　　成熟工藝領(lǐng)域?yàn)橹?，?guó)內(nèi)光刻設(shè)備市場(chǎng)廣闊：中國(guó)大陸以成熟制程為主的半導(dǎo)體產(chǎn)線不斷擴(kuò)產(chǎn)，產(chǎn)生了大量光刻設(shè)備的需求。2021年ASML有高達(dá)27.4億歐元的營(yíng)收來(lái)自中國(guó)大陸（其全球第三大市場(chǎng)）；全球光刻設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模超180億美元，顯影涂膠設(shè)備市場(chǎng)超30億美元。國(guó)產(chǎn)光刻曝光設(shè)備尚處于實(shí)驗(yàn)階段；顯影涂膠設(shè)備已覆蓋浸沒(méi)式ArFi工藝節(jié)點(diǎn)，突破動(dòng)能強(qiáng)勁。
　　光刻機(jī)上游零部件市場(chǎng)有待發(fā)掘：光刻機(jī)的運(yùn)行需光源、照明、掩膜臺(tái)、物鏡、工件臺(tái)等多個(gè)精密系統(tǒng)組合工作，全球光刻零件市場(chǎng)至少約70億美元（按50%毛利率推算）。相比其他半導(dǎo)體零件，光刻機(jī)零件單個(gè)價(jià)值量高，技術(shù)難度大。貿(mào)易限制導(dǎo)致海外供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)劇增，國(guó)內(nèi)光學(xué)企業(yè)成為不二之選，技術(shù)能力與對(duì)應(yīng)產(chǎn)品的盈利能力有望加速成長(zhǎng)。
　　投資建議：在光刻配套設(shè)備與零件方面，建議關(guān)注蘇大維格（300311.SZ）、茂萊光學(xué)(688502.SH)、芯源微（688037.SH）、精測(cè)電子（300567.SZ）、盛美上海（688082.SH）、美?？萍迹?88376.SH）、炬光科技（688167.SH）、福晶科技（002222.SZ）等。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：半導(dǎo)體行業(yè)景氣度下滑，光刻設(shè)備需求不及預(yù)期；貿(mào)易保護(hù)主義因素導(dǎo)致國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)放緩；光刻設(shè)備與組件技術(shù)難度大，相關(guān)研發(fā)進(jìn)度可能慢于預(yù)期。