>> 廣發(fā)證券-中微公司(688012)產(chǎn)品延續(xù)領(lǐng)先優(yōu)勢，國產(chǎn)替代空間廣闊-230430
| 上傳日期： |
2023/4/30 |
大小： |
836KB |
| 格式： |
pdf 共4頁 |
來源： |
廣發(fā)證券 |
| 評級： |
買入 |
作者： |
許興軍,王亮,耿正 |
| 下載權(quán)限： |
此報告為加密報告 |
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刻蝕+MOCVD延續(xù)領(lǐng)先優(yōu)勢，Q1營收穩(wěn)步增長。公司發(fā)布2023年一季報，23Q1公司營收12.23億元，YoY+28.86%；歸母凈利潤2.75億元，YoY+134.98%。毛利率45.87%，YoY+0.41pct，凈利率22.48%，YoY+10.15pct。23Q1，公司的刻蝕設備在國內(nèi)外持續(xù)獲得更多客戶的認可，市場占有率不斷提高，CCP/ICP實現(xiàn)多次批量銷售；MOCVD延續(xù)市場領(lǐng)先優(yōu)勢，營收實現(xiàn)高速增長。
多產(chǎn)品線齊頭并進，市場競爭優(yōu)勢穩(wěn)步提升。公司CCP設備不斷完善產(chǎn)品性能，繼續(xù)保持競爭優(yōu)勢，在5nm產(chǎn)線上實現(xiàn)了批量應用；ICP設備在20余家客戶的邏輯/DRAM/3DNAND等產(chǎn)線上進行超100個ICP刻蝕工藝的量產(chǎn)。同時，公司Mini-LEDMOCVD設備市場地位國際領(lǐng)先，并積極布局用于GaN/SiC功率器件的三代半設備市場。此外，公司首臺CVD鎢設備已付運到關(guān)鍵存儲客戶端驗證評估，并穩(wěn)步推進ALD/EPI設備的研發(fā)，在沉積設備領(lǐng)域的產(chǎn)品矩陣日益完善。
引領(lǐng)國內(nèi)高端設備技術(shù)創(chuàng)新，國產(chǎn)替代空間廣闊。在邏輯電路領(lǐng)域，公司12寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進產(chǎn)線。在3DNAND領(lǐng)域，公司的刻蝕設備已應用于64/128層的量產(chǎn)，同時公司根據(jù)存儲客戶需求正在開發(fā)極高深寬比的刻蝕設備和工藝。公司的產(chǎn)品技術(shù)在國內(nèi)市場的領(lǐng)先優(yōu)勢突出，未來有望協(xié)同客戶實現(xiàn)制程工藝的持續(xù)升級，加速提升客戶端供應份額，國產(chǎn)替代空間廣闊。
盈利預測與投資建議。預計公司23-25年收入62.51/81.52/104.99億元，歸母凈利潤14.61/19.05/24.68億元，參考可比公司估值，考慮到公司的先進制程領(lǐng)先優(yōu)勢和刻蝕龍頭地位，給予公司23年22倍的PS，合理價值222.62元/股，維持“買入”評級。
風險提示。行業(yè)周期波動；客戶拓展不及預期；市場競爭加劇。
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