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光刻機(jī)：半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠。光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備，主要由光學(xué)系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)構(gòu)成。目前市場(chǎng)上的光刻機(jī)主要分為g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新，其中g(shù)-line逐漸被市場(chǎng)淘汰，第五代EUV光刻機(jī)的最小工藝節(jié)點(diǎn)達(dá)到了最優(yōu)。在光刻機(jī)的更新迭代中，對(duì)光源、光學(xué)透鏡、反射鏡系統(tǒng)提出了越來(lái)越高的要求。
　　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈復(fù)雜，全球光刻機(jī)市場(chǎng)快速增長(zhǎng)。光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈較為復(fù)雜，主要包括上游設(shè)備及材料、中游光刻機(jī)生產(chǎn)及下游刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié)。目前市場(chǎng)上的光刻機(jī)主要分為g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新，五代光刻機(jī)的主要差異是光刻機(jī)的工藝節(jié)點(diǎn)，即限制成品所能獲得的最小尺寸，從出貨量來(lái)看，2017年至2021年，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模從294臺(tái)增長(zhǎng)至450臺(tái)，CAGR達(dá)11.23%。
　　ASML、Nikon、Canon三分天下。目前市場(chǎng)主流產(chǎn)品基本來(lái)自ASML、Nikon和Canon。三家企業(yè)光刻機(jī)出貨量由2015年的281臺(tái)增長(zhǎng)至2022年的551臺(tái)，CAGR達(dá)10.10%；銷售收入由2019年的945億元增長(zhǎng)至2022年的1318億元，CAGR達(dá)11.73%。其中ASML占據(jù)絕對(duì)的龍頭地位，壟斷高端EUV市場(chǎng)。Canon在低端光刻機(jī)市場(chǎng)占據(jù)優(yōu)勢(shì)地位，主要集中在i-line光刻機(jī)；Nikon在光刻機(jī)產(chǎn)品類型覆蓋較廣，在除EUV之外的類型均有涉及，其中以ArF和i-line光刻機(jī)領(lǐng)域較為突出，但在出貨量上遠(yuǎn)少于ASML和Canon。
　　光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)。上海微電子是大陸光刻機(jī)進(jìn)展最快的廠商，其自主研發(fā)的600系列光刻機(jī)可批量生產(chǎn)90nm工藝的芯片。但是在技術(shù)層面，上海微電子的IC前道光刻機(jī)與國(guó)際先進(jìn)水平差距仍較大。上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)的光刻機(jī)中性能最好的最高可實(shí)現(xiàn)90nm制程節(jié)點(diǎn)，ASML的EUV 3400B制程節(jié)點(diǎn)可達(dá)到5nm。這也使得在IC前道光刻機(jī)市場(chǎng)，國(guó)產(chǎn)化率較低，國(guó)內(nèi)的IC前道光刻機(jī)市場(chǎng)主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。
　　投資建議：建議關(guān)注福晶科技、福光股份、騰景科技、茂萊光學(xué)、炬光科技、蘇大維格、富創(chuàng)精密、奧普光電、賽微電子等。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈研發(fā)進(jìn)展不及預(yù)期；客戶導(dǎo)入進(jìn)度不及預(yù)期；國(guó)際貿(mào)易摩擦加??；匯率波動(dòng)風(fēng)險(xiǎn)