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>> 申萬宏源-半導(dǎo)體行業(yè):日本正式出臺(tái)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施,國產(chǎn)替代趨勢明確-230524
上傳日期:   2023/5/25 大?。?/td>   478KB
格式:   pdf  共3頁 來源:   申萬宏源
評級:   看好 作者:   李天奇,楊海晏
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事件:5月23日,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省正式發(fā)布《外匯及外國貿(mào)易法》修改省令,擴(kuò)大出口時(shí)需經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣批準(zhǔn)的制造裝置對象范圍,即半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。該措施將于7月23日實(shí)施。
  正式措施與前期征求意見草案核心內(nèi)容基本一致。2023年3月31日,日本政府宣布在補(bǔ)充“瓦森納協(xié)定”的同時(shí),將以前未納入出口管制的、包括全部浸沒式深紫外(DUV)光刻機(jī)在內(nèi)的23種半導(dǎo)體制造設(shè)備追加至出口管制范圍之內(nèi),征求公眾意見至2023年4月29日。中日企業(yè)在管制公開征求意見期間提出反對與擔(dān)憂未獲回應(yīng),本次正式措施相較征求意見稿除調(diào)整部分描述性表述外無任何變化。
  6大類23項(xiàng)先進(jìn)制程半導(dǎo)體設(shè)備出口限制,涵蓋絕大部分半導(dǎo)體前道工藝。此次措施限制出口的芯片制造設(shè)備共有6大類23項(xiàng),包括薄膜沉積設(shè)備(11項(xiàng))、光刻及涂膠顯影設(shè)備(3項(xiàng))、刻蝕設(shè)備(3項(xiàng))、清洗設(shè)備(2項(xiàng))、熱處理設(shè)備(1項(xiàng))、檢測量測設(shè)備(1項(xiàng))。光刻機(jī)方面限制ArFi及更先進(jìn)制程設(shè)備,其他設(shè)備整體對應(yīng)工藝制程14nm及以下。
  日本半導(dǎo)體設(shè)備龍頭企業(yè)或受到較大影響。全球半導(dǎo)體設(shè)備市場格局中,涂膠顯影設(shè)備東京電子市占率近90%,清洗設(shè)備迪恩士、東京電子合計(jì)市占率約65%,刻蝕設(shè)備東京電子市占率約29%,薄膜沉積設(shè)備東京電子、國際電氣等市占率約23%,光刻機(jī)尼康、佳能市占率約20%,檢測量測設(shè)備日立高新市占率約9%。2022年日本向中國大陸出口的半導(dǎo)體制造設(shè)備金額超過8200億日元(約合424.21億元人民幣),中國大陸是日企在該領(lǐng)域的第一大出口目的地,約占出口總額的30%。雖此次出口限制措施主要集中在先進(jìn)制程領(lǐng)域,但政策趨勢預(yù)將影響國內(nèi)晶圓廠在成熟制程領(lǐng)域提升國產(chǎn)化率,使得日企市占率下降。
  我國商務(wù)部發(fā)言表示強(qiáng)烈反對,保留采取措施權(quán)利。半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施正式出臺(tái)當(dāng)天,我國商務(wù)部做出回應(yīng),表示該措施是對出口管制措施的濫用,是對自由貿(mào)易和國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則的嚴(yán)重背離,中方對此堅(jiān)決反對,該措施將嚴(yán)重?fù)p害中日兩國企業(yè)利益,嚴(yán)重?fù)p害中日經(jīng)貿(mào)合作關(guān)系,破壞全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局,沖擊產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈安全和穩(wěn)定,中方將保留采取措施的權(quán)利,堅(jiān)決維護(hù)自身合法權(quán)益。
  國產(chǎn)替代趨勢明確,國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭預(yù)將快速成長。美日等國家限制向中國出口半導(dǎo)體技術(shù)和設(shè)備、減緩中國發(fā)展自主半導(dǎo)體能力的行動(dòng)或?qū)㈤L期延續(xù),催化產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化率提升。一方面國內(nèi)晶圓廠成熟制程擴(kuò)產(chǎn)節(jié)奏受影響較小、同時(shí)國產(chǎn)設(shè)備性價(jià)比持續(xù)增加提升市場份額;另一方面外部壓力+內(nèi)部支持下國內(nèi)設(shè)備廠商技術(shù)突破進(jìn)度有望加快,逐步打破先進(jìn)制程領(lǐng)域國外廠商壟斷。
  投資分析意見:國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭標(biāo)的持續(xù)受益。重點(diǎn)關(guān)注:中微公司(刻蝕設(shè)備龍頭);北方華創(chuàng)(刻蝕、薄膜沉積、清洗等);芯源微(涂膠顯影機(jī)龍頭);拓荊科技(薄膜沉積設(shè)備龍頭);中科飛測(檢測量測設(shè)備);盛美上海、至純科技(清洗設(shè)備)。
  風(fēng)險(xiǎn)提示:國內(nèi)設(shè)備廠商研發(fā)進(jìn)程不及預(yù)期;國內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)進(jìn)度不及預(yù)期。
  
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