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事件：荷蘭政府公布半導(dǎo)體設(shè)備出口限制措施，光刻機(jī)、沉積設(shè)備、硅外延設(shè)備等多類產(chǎn)品受限，出口需要向荷蘭政府申請(qǐng)?jiān)S可證。出口限制措施將于2023年9月1日開始實(shí)行。
　　光刻機(jī)受限情況與ASML預(yù)期相符：ASML聲明，根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，其需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證才能出口TWINSCANNXT：2000i或更先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV系統(tǒng)。荷蘭政府將決定是否授予出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。比DUV波長(zhǎng)更短，更加先進(jìn)的EUV光刻機(jī)此前已經(jīng)受限。較老的TWINSCANNXT:1980Di光刻機(jī)不在限制范圍內(nèi)。
　　多種成膜設(shè)備受限，ASMI公司受影響：除光刻機(jī)之外，用于金屬剝離的原子層沉積（ALD）設(shè)備,設(shè)計(jì)用于硅、碳摻雜硅、硅鍺（SiGe）或碳摻雜SiGe外延生長(zhǎng)的設(shè)備也被限制出口。荷蘭另一家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)ASMI公司的主要產(chǎn)品包括ALD（原子層沉積）、EPI（硅外延）、PECVD和爐管設(shè)備，未來其在華銷售可能受到影響。
　　進(jìn)口受限，多項(xiàng)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化有望加速：中微公司正在開發(fā)集成電路前端生長(zhǎng)硅及鍺硅的外延設(shè)備（EPI），已取得了可喜的進(jìn)展。北京北方華創(chuàng)實(shí)現(xiàn)外延工藝設(shè)備全覆蓋，覆蓋集成電路、功率器件、射頻、半導(dǎo)體照明等領(lǐng)域應(yīng)用需求。拓荊科技、微導(dǎo)納米分別在PECVD、ALD領(lǐng)域布局。針對(duì)荷蘭成膜設(shè)備的國(guó)產(chǎn)替代有望快速推進(jìn)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：地緣政治風(fēng)險(xiǎn)；半導(dǎo)體設(shè)備需求不及預(yù)期；行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇。