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國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室技術(shù)支持，CMP技術(shù)國內(nèi)領(lǐng)先：公司與清華大學(xué)國家摩擦學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室深度合作，開展CMP前瞻性研究，并引入優(yōu)秀科研人員，具備豐富的理論、技術(shù)、人才儲(chǔ)備。公司掌握了納米級(jí)精度的拋光、納米顆粒超潔凈清洗、納米膜厚在線檢測(cè)、大數(shù)據(jù)分析及智能控制等多項(xiàng)核心技術(shù)，在CMP設(shè)備領(lǐng)域取得了牢固的國內(nèi)領(lǐng)先地位。
　　 CMP設(shè)備仍存廣闊進(jìn)口替代空間：除集成電路前道制造外，CMP設(shè)備也運(yùn)用于先進(jìn)封裝與硅片制造環(huán)節(jié)。據(jù)中國海關(guān)數(shù)據(jù)顯示2022年中國大陸CMP設(shè)備進(jìn)口額仍高達(dá)6.21億美元，美國和日本占據(jù)較大比例，對(duì)外依賴依然嚴(yán)重。展望未來，集成電路制程升級(jí)推動(dòng)CMP工序數(shù)量持續(xù)攀升；先進(jìn)封裝對(duì)減薄拋光設(shè)備需求量提升，CMP設(shè)備市場(chǎng)需求規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)張。
　　國內(nèi)晶圓廠客戶資源穩(wěn)定，布局減薄機(jī)著眼先進(jìn)封裝：公司的CMP設(shè)備已進(jìn)入中芯、長存、華虹、長鑫等知名客戶產(chǎn)線；技術(shù)水平已突破至14nm、128+層、1X/1Ynm等級(jí)。2023年5月，公司開發(fā)的用于3DIC領(lǐng)域的超精密磨削減薄、拋光、清洗的一體機(jī)已發(fā)往集成電路龍頭企業(yè)。
　　晶圓再生與摻雜、濕法、測(cè)量設(shè)備有望打開新增長曲線：公司圍繞核心產(chǎn)品CMP拋光設(shè)備，大力發(fā)展配套的濕法設(shè)備、膜厚測(cè)量設(shè)備、拋光頭耗材、晶圓再生等業(yè)務(wù)，有望開拓新增長點(diǎn)。
　　投資建議：基于公司在CMP與減薄設(shè)備等領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)，我們預(yù)計(jì)公司2023-2025年實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入27.93/35.31/47.15億元，歸母凈利潤7.65/9.72/13.03億元，PE為43.55/34.26/25.55倍，維持“增持”評(píng)級(jí)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：半導(dǎo)體周期下行，國內(nèi)晶圓廠設(shè)備采購放緩；高端產(chǎn)品研發(fā)推廣進(jìn)度不及預(yù)期;行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇。