>> 光大證券-中微公司(688012)跟蹤報告之八：23Q2業(yè)績穩(wěn)健增長，新產(chǎn)品驗證進展順利-230831
| 上傳日期： |
2023/8/31 |
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| 681KB |
| 格式： |
pdf 共4頁 |
來源： |
光大證券 |
| 評級： |
買入 |
作者： |
劉凱，于文龍 |
| 下載權(quán)限： |
此報告為加密報告 |
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事件：
公司發(fā)布2023年半年報，營業(yè)收入25.27億元，同比增長28.13%；歸母凈利潤10.03億元，同比增長114.40%；扣非歸母凈利潤5.19億元，同比增長17.75%。
點評：
公司刻蝕設(shè)備技術(shù)不斷向更先進制程推進。2023年上半年，公司緊跟技術(shù)發(fā)展趨勢和客戶需求，堅持自主創(chuàng)新，致力于產(chǎn)品的差異化，持續(xù)強化刻蝕設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢。在深耕成熟刻蝕工藝市場的同時大力投入先進芯片制造技術(shù)中關(guān)鍵刻蝕設(shè)備的研發(fā)。
在邏輯芯片制造方面，公司開發(fā)的12英寸高端刻蝕設(shè)備持續(xù)獲得國際國內(nèi)知名客戶的訂單，已經(jīng)在從65納米到5納米的各個技術(shù)結(jié)點大量量產(chǎn)；同時，先進邏輯器件制造對加工的精確性，重復(fù)性，微粒污染水平，以及反應(yīng)腔之間的匹配度等都提出了更高的要求，公司著力改進刻蝕設(shè)備性能以滿足5納米技術(shù)以下的若干關(guān)鍵步驟加工的要求，目前也已經(jīng)獲得重復(fù)訂單并付運。
在存儲芯片制造環(huán)節(jié)，公司的等離子體刻蝕設(shè)備已大量用于先進三維閃存和動態(tài)隨機存儲器件的量產(chǎn)。先進存儲芯片制造中最關(guān)鍵的超高深寬比結(jié)構(gòu)刻蝕應(yīng)用目前仍然被國外半導(dǎo)體設(shè)備公司壟斷。公司致力于提供超高深寬比掩膜（≥40:1）和超高深寬比介質(zhì)刻蝕（≥60:1）的全套解決方案，相應(yīng)的開發(fā)了配備超低頻偏壓射頻的ICP刻蝕機用于超高深寬比掩膜的刻蝕，并且開發(fā)了配備超低頻高功率偏壓射頻的CCP刻蝕機用于超高深寬比介質(zhì)刻蝕。這兩種設(shè)備都已經(jīng)開展現(xiàn)場驗證，目前進展順利。
此外，公司和國內(nèi)外特殊器件制造客戶合作，在先進封裝、功率器件、微機電系統(tǒng)等領(lǐng)域不斷拓展應(yīng)用，持續(xù)獲得訂單。公司通過與國際領(lǐng)先客戶合作，積極參與新興器件制造技術(shù)的研發(fā)，在超構(gòu)透鏡（Metalenses）和基于12英寸晶圓的微機電系統(tǒng)制造等方面都取得可喜的進展，公司設(shè)備已經(jīng)在相應(yīng)的生產(chǎn)線上進行最新技術(shù)的研發(fā)和試產(chǎn)。
公司薄膜設(shè)備研發(fā)與驗證進展順利。公司已在短時間內(nèi)實現(xiàn)多種LPCVD設(shè)備的研發(fā)交付以及ALD設(shè)備（原子層沉積）的重大突破，多款新產(chǎn)品研發(fā)項目在快速推進。
公司完全自主設(shè)計開發(fā)的雙臺機CVD鎢設(shè)備，在達到業(yè)界領(lǐng)先生產(chǎn)率的同時，保證了較低的化學(xué)品消耗，具有優(yōu)秀的階梯覆蓋率和填充能力，能夠滿足先進邏輯器件接觸孔填充應(yīng)用、DRAM器件接觸孔應(yīng)用，以及3DNAND器件中的多個關(guān)鍵應(yīng)用需求。公司開發(fā)的新型號CVD鎢設(shè)備用創(chuàng)新的工藝解決方案，滿足了器件中超高深寬比的接觸孔填充要求。公司開發(fā)的ALD鎢設(shè)備，能夠滿足3DNAND等三維器件結(jié)構(gòu)中金屬鎢的填充需求。同時公司在開發(fā)的另一ALD產(chǎn)品系列，具有業(yè)界領(lǐng)先的階梯覆蓋率、均一性和輸出效率，能夠滿足先進邏輯和存儲器件中金屬阻擋層和金屬柵極的應(yīng)用需求。
為擴充資產(chǎn)規(guī)模、增強公司實力以持續(xù)做大做強主業(yè)，公司產(chǎn)業(yè)化建設(shè)項目正在順利推進中，在南昌的約14萬平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地已建成完工，并于2023年7月正式投入使用；公司在上海臨港的約18萬平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地主體建設(shè)已完成，上海臨港滴水湖畔約10萬平方米的研發(fā)中心暨總部大樓也在順利建設(shè)，為今后的大發(fā)展夯實基礎(chǔ)。
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