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事件：公司發(fā)布2023年半年度報告。
　　刻蝕設備持續(xù)放量，2023H1收入端實現穩(wěn)健增長
　　2023H1公司實現營業(yè)收入25.27億元，同比+28%，其中Q2營收為13.03億元，同比+27%，延續(xù)穩(wěn)健增長趨勢。1）刻蝕設備：2023H1實現收入17.22億元，同比+33%。公司刻蝕設備在國內外市場占有率不斷提高，CCP設備在國際最先進的5nm芯片生產線及下一代更先進的生產線刻蝕設備實現了多次批量銷售，同時ICP設備迅速擴大市場并不斷收到領先客戶的批量訂單。2）MOCVD：2023H1實現收入2.99億元，同比+24%。公司MOCVD產品在新一代Mini-LED產線上繼續(xù)保持絕對領先的地位。2022年公司新簽訂單約63.2億元，同比+53%。截至2023H1末，公司合同負債和存貨分別達到18.05和38.05億元，分別較2022年底-18%和+12%，我們判斷2023H1末公司在手訂單依舊較為充足。隨著訂單陸續(xù)交付，公司2023H2收入有望延續(xù)高增長。
　　大額非經常性損益增厚利潤空間，2023H1銷售凈利率同比+16pct
　　2023H1公司實現歸母凈利潤10.03億元，同比+114%，落于業(yè)績預告中位區(qū)間（9.8~10.3億元）；其中Q2歸母凈利潤為7.28億元，同比+108%。2023H1公司實現扣非歸母凈利潤5.19億元，同比+18%，落于業(yè)績預告中位區(qū)間（5.0~5.4億元）；其中Q2扣非歸母凈利潤為2.91億元，同比+14%。2023H1銷售凈利率和扣非銷售凈利率分別為39.67%和20.54%，分別同比+16.01pct和-1.81pct。1）毛利端：2023H1銷售毛利率為45.89%，同比+0.53pct，略有增長，其中刻蝕設備、MOCVD設備毛利率分別達到46.16%和37.90%。2）費用端：2023H1期間費用率為21.81%，同比-2.03pct，其中銷售、管理、財務和研發(fā)費用率分別同比-1.03、-4.24、+2.98和-3.83pct。3）2023H1非經常性損益為收益4.84億元，同比增加約4.57億元，明顯增厚公司上半年凈利潤，變動主要系出售處置部分持有的拓荊科技股權產生稅后凈收益4.06億元。
　　積極持續(xù)推進新品研發(fā)，先進工藝能力快速突破
　　公司在鞏固現有產品競爭優(yōu)勢的同時，積極推進新產品研發(fā)，打開市場空間。①CCP設備：在邏輯領域，已對28nm以上的絕大部分CCP刻蝕應用和28nm及以下的大部分CCP刻蝕應用形成較為全面的覆蓋。在存儲領域，超高深寬比刻蝕機已在客戶端驗證出≥60:1深寬比結構的能力。②ICP設備：Primo nanovaICP刻蝕產品已在超過20家客戶生產線上進行100多個ICP刻蝕工藝的驗證，工藝覆蓋3DNAND、DRAM和邏輯芯片，并持續(xù)獲得國際先進3DNAND客戶批量訂單。③MOCVD設備：積極布局第三代半導體設備，開發(fā)GaN功率器件量產應用的MOCVD設備，已在國內外領先客戶產線進行驗證并獲得重復訂單。④薄膜沉積設備：公司首臺CVD鎢設備2022底付運關鍵存儲客戶端驗證評估，目前驗證進展順利；公司開發(fā)的應用于先進存儲和邏輯器件的ALD氮化鈦設備也取得重大進展，預期在2023H2發(fā)往客戶端進行量產驗證。此外，公司EPI設備也進入工藝調試和客戶驗證階段。⑤量測設備：公司參股睿勵科學，布局前道量/檢測設備，持續(xù)提升持股比例。在產能方面，2021年公司連續(xù)啟動南昌、臨港產業(yè)基地、臨港研發(fā)暨總部等建設項目，隨著產能加速釋放，為公司中長期增長奠定基礎。
　　盈利預測與投資評級：考慮到公司存在大額投資凈收益，我們調整2023-2025年歸母凈利潤預測分別為18.85、19.94和25.54億元（原值15.24、19.31和24.64億元），當前市值對應動態(tài)PE分別為43、40、32倍?；诠镜母叱砷L性，維持“買入”評級。
　　風險提示：晶圓廠擴產節(jié)奏不及預期，新品研發(fā)&產業(yè)化不及預期等。