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公司2023Q2業(yè)績(jī)穩(wěn)健增長(zhǎng)，維持“買入”評(píng)級(jí)公司2023年H1實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入25.27億元，YoY+28.13%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)10.03億元，YoY+114.4%；扣非凈利潤(rùn)5.19億元，YoY+17.75%，非經(jīng)常性損益4.84億元，主要系公司出售了部分持有的拓荊科技股票，產(chǎn)生稅后凈收益約4.06億元；毛利率45.89%，YoY+0.52pcts。其中2023Q2實(shí)現(xiàn)營(yíng)收13.03億元，YoY+27.46%，QoQ+6.57%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)7.28億元，YoY+107.53%，QoQ+164.23%；扣非凈利潤(rùn)2.91億元，YoY+14.46%，QoQ+27.74%。半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)替代持續(xù)推進(jìn)，公司業(yè)績(jī)穩(wěn)定增長(zhǎng)，我們上調(diào)公司盈利預(yù)測(cè)，預(yù)計(jì)2023/2024/2025年歸母凈利潤(rùn)為17.07/17.42/22.00億元（前值為13.84/17.37/21.46億元），預(yù)計(jì)2023/2024/2025年EPS為2.76/2.82/3.56元（前值為2.25/2.82/3.48元），當(dāng)前股價(jià)對(duì)應(yīng)PE為47.3/46.3/36.7，維持“買入”評(píng)級(jí)。
　　新產(chǎn)品加速驗(yàn)證導(dǎo)入，平臺(tái)化布局開拓成長(zhǎng)空間
　　分業(yè)務(wù)看，刻蝕設(shè)備2023H1營(yíng)收實(shí)現(xiàn)17.22億元，YoY+32.53%，毛利率46.16%；其中，公司CCP刻蝕設(shè)備在國(guó)際最先進(jìn)5納米芯片生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)批量銷售，2023H1累計(jì)生產(chǎn)交付超過(guò)2500個(gè)CPP刻蝕反應(yīng)臺(tái)。在針對(duì)28納米及以下邏輯領(lǐng)域，公司CPP刻蝕機(jī)Primo SD-RIE已進(jìn)入客戶驗(yàn)證節(jié)點(diǎn)。存儲(chǔ)領(lǐng)域，公司自主研發(fā)超高深比刻蝕機(jī)已在客戶端驗(yàn)證出具有≥60：1深寬比結(jié)構(gòu)能力。ICP刻蝕方面，公司推出Nanova VEHP和Nanova LUX新產(chǎn)品，在先進(jìn)邏輯、先進(jìn)DRAM和3DNAND中工藝覆蓋率達(dá)到50-70%。MOCVD設(shè)備2023H1營(yíng)收2.99億元，YoY+24.11%，毛利率37.9%，在新一代Mini-LED生產(chǎn)線上繼續(xù)保持絕對(duì)領(lǐng)先地位，且公司啟動(dòng)碳化硅功率器件外延生產(chǎn)設(shè)備的開發(fā)，計(jì)劃2023年內(nèi)交付樣機(jī)至客戶端開展生產(chǎn)驗(yàn)證。薄膜沉積設(shè)備方面，公司新型號(hào)CVD鎢和ALD鎢設(shè)備已通過(guò)關(guān)鍵客戶實(shí)驗(yàn)室測(cè)試，首臺(tái)量產(chǎn)驗(yàn)證機(jī)已在客戶端進(jìn)行測(cè)試。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：行業(yè)需求下降風(fēng)險(xiǎn)；行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇風(fēng)險(xiǎn)；技術(shù)研發(fā)不及預(yù)期。