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>> 申萬宏源-半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)點(diǎn)評(píng):美限制算力新品出口,國產(chǎn)算力崛起有望拉動(dòng)先進(jìn)封裝需求-231025
上傳日期:   2023/10/25 大?。?/td>   640KB
格式:   pdf  共3頁 來源:   申萬宏源
評(píng)級(jí):   看好 作者:   王珂,李蕾,楊海晏
下載權(quán)限:   此報(bào)告為加密報(bào)告,僅限高級(jí)會(huì)員查看
事件:
  2023年10月17日,美國商務(wù)部工業(yè)和安全局(BIS)更新了“先進(jìn)計(jì)算芯片和半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制規(guī)則”,并將于11月16日正式生效。
  點(diǎn)評(píng):
  美國限制算力新品出口,國產(chǎn)算力受益需求爆發(fā)。先進(jìn)計(jì)算芯片和半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制規(guī)則”是對(duì)2022年10月7日出臺(tái)的規(guī)則的修改和強(qiáng)化,進(jìn)一步限制高性能計(jì)算芯片出口。IDC(國際數(shù)據(jù)公司)發(fā)布的《中國半年度加速計(jì)算市場(2023上半年)跟蹤》報(bào)告顯示,2023年上半年中國加速芯片的市場規(guī)模超過50萬張,其中中國本土AI芯片品牌出貨超過5萬張,占市場10%左右份額。根據(jù)中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)2026年中國集成電路制造業(yè)銷售額將達(dá)到6827億元,2021-2026年CAGR為21.96%。
  高性能運(yùn)算和AI火爆需求的釋放,拉動(dòng)新一輪先進(jìn)封裝需求。據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)消息,臺(tái)積電啟動(dòng)CoWoS大擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,計(jì)劃到2024年底擴(kuò)充一倍的CoWoS先進(jìn)封裝產(chǎn)能。CoWoS是基于interposer(中間介質(zhì)層)實(shí)現(xiàn)的2.5D封裝技術(shù),將多個(gè)有源硅芯片(通常配置是邏輯和HBM堆棧)集成在無源硅interposer(僅具備TSV和RDL)上。其通過縮短芯片間的互連距離,提升產(chǎn)品性能與能效的同時(shí)實(shí)現(xiàn)降低生產(chǎn)成本,在高性能計(jì)算、AI等領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。除英偉達(dá)外,超威半導(dǎo)體、亞馬遜、谷歌、微軟等AI大廠都在積極采用CoWoS技術(shù),向臺(tái)積電發(fā)出急單。根據(jù)《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》報(bào)道,Yole(法國優(yōu)樂)最新報(bào)告指出,先進(jìn)封裝市場Q3將實(shí)現(xiàn)環(huán)比增長23.8%,預(yù)計(jì)今年全年市場保持平穩(wěn)增長,未來5年CAGR將達(dá)到8.7%,從2022年的439億美元增長至2028年的724億美元。
  中國晶圓廠及封測(cè)廠自主擴(kuò)產(chǎn),中芯國際、長存、通富等投資意愿增強(qiáng)。晶圓廠方面,根據(jù)中芯國際公告,公司產(chǎn)能在以穩(wěn)定的節(jié)奏持續(xù)增加,主要集中在8英寸和12英寸,并將根據(jù)市場情況進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃。封測(cè)廠方面,根據(jù)通富微電公告,公司在蘇州、檳城、合肥、廈門等地正積極進(jìn)行生產(chǎn)布局,施工面積合計(jì)約27.3萬平米。長電、華天也在積極推進(jìn)生產(chǎn)基地項(xiàng)目建設(shè),2023年上半年三家合計(jì)資本支出超過60億元。
  光刻應(yīng)用于FC、Bumping、RDL、TSV等工藝,LDI曝光機(jī)在自動(dòng)套刻、背部對(duì)準(zhǔn)、智能糾偏等方面優(yōu)于傳統(tǒng)stepper。在先進(jìn)封裝中,光刻機(jī)主要應(yīng)用于倒裝(FC)的凸塊(bumping)制作、重分布層(RDL)、2.5D/3D封裝的硅通孔(TSV)、以及銅柱(Copper Pillar)等。直寫光刻技術(shù)無需掩膜版,可直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上,主要應(yīng)用于FC、WLP和2.5D/3D等先進(jìn)封裝領(lǐng)域,具備自動(dòng)套刻、背部對(duì)準(zhǔn)、智能糾偏、WEE/WEP功能,在RDL、Bumping和TSV等制程工藝中優(yōu)勢(shì)明顯,有利于提升產(chǎn)品良率。伴隨技術(shù)進(jìn)步,直寫光刻逐步拓展應(yīng)用,我們預(yù)計(jì)LDI曝光設(shè)備未來將持續(xù)向高端領(lǐng)域布局。
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