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核心觀點(diǎn)
　　濺射靶材是芯片鍍膜的核心材料。濺射靶材主要應(yīng)用于芯片生產(chǎn)的晶圓制造鍍膜與芯片封裝鍍膜環(huán)節(jié)。在濺射沉積工藝中，真空環(huán)境下的高速離子束流轟擊靶坯表面，將靶材原子濺射出來(lái)并沉積在基底上，最終形成電子薄膜。電子薄膜能夠優(yōu)化材料性能、實(shí)現(xiàn)信號(hào)傳遞等器件特定功能，在工業(yè)生產(chǎn)中有著舉足輕重的作用。目前行業(yè)主流濺射靶材分為銅、鉭、鋁、鈦、鎢、鈷六大類(lèi)，多用于制備金屬互連線、接觸層、阻擋層、粘附層等結(jié)構(gòu)。
　　濺射靶材下游應(yīng)用場(chǎng)景豐富，多重產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)持續(xù)打開(kāi)市場(chǎng)空間。靶材下游終端應(yīng)用廣泛，核心覆蓋半導(dǎo)體集成電路、平面顯示、光伏電池等領(lǐng)域。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)擴(kuò)張、薄膜技術(shù)應(yīng)用深化，以及電子設(shè)備小型化高性能化與5G、AI、IoT、新能源車(chē)的普及，為靶材市場(chǎng)提供核心增長(zhǎng)動(dòng)力?，F(xiàn)階段全球及國(guó)內(nèi)晶圓廠商均在持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，直接帶動(dòng)濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模穩(wěn)步擴(kuò)容。據(jù)弗若斯特沙利文測(cè)算，2027年全球半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)將達(dá)到251.10億元。與此同時(shí)，AI芯片產(chǎn)能擴(kuò)張、3DNAND閃存堆疊層數(shù)持續(xù)增加，進(jìn)一步推動(dòng)靶材整體用量高速攀升。根據(jù)研精畢智數(shù)據(jù)，先進(jìn)制程對(duì)應(yīng)的靶材單位消耗量是傳統(tǒng)工藝的3-5倍，已然成為拉動(dòng)行業(yè)增長(zhǎng)的核心力量。
　　六氟化鎢供應(yīng)短缺，鎢靶提價(jià)帶來(lái)增長(zhǎng)彈性。在晶圓化學(xué)氣相沉積工藝中，六氟化鎢是制備金屬鎢薄膜的主流前驅(qū)體氣體。鎢膜兼具高導(dǎo)電、低電阻、耐高溫的優(yōu)勢(shì)，在先進(jìn)制程中難以被替代。受我國(guó)鎢相關(guān)原料出口管制影響，海外供應(yīng)端明顯承壓。據(jù)韓國(guó)媒體The Elec消息，SKSpecialty、Foosung等供應(yīng)商已告知三星電子、SK海力士等韓國(guó)芯片企業(yè)，計(jì)劃2026年將六氟化鎢價(jià)格上調(diào)70%–90%。日本關(guān)東電化、中央硝子也向三星等客戶(hù)表示，受鎢粉原料管制沖擊，現(xiàn)有庫(kù)存僅能維持至5至6月，下半年供貨無(wú)法保障，并建議客戶(hù)另尋貨源。隨著行業(yè)供需關(guān)系趨緊，鎢靶價(jià)格具備上漲動(dòng)力，國(guó)內(nèi)相關(guān)靶材企業(yè)將顯著受益，國(guó)內(nèi)具備量產(chǎn)能力的靶材廠商憑借在原料保供與成本端的優(yōu)勢(shì)，正加速導(dǎo)入頭部晶圓廠，有望同步實(shí)現(xiàn)份額提升與價(jià)格傳導(dǎo)。
　　投資建議：建議關(guān)注江豐電子、歐萊新材、阿石創(chuàng)、有研新材等。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：靶材下游需求不及預(yù)期風(fēng)險(xiǎn)；原材料價(jià)格波動(dòng)風(fēng)險(xiǎn)；靶材漲價(jià)不及預(yù)期風(fēng)險(xiǎn)等。