>> 招商證券-盛美上海(688082)拓展前道涂膠顯影和PECVD設備，打開未來成長天花板-221214
| 上傳日期： |
2022/12/15 |
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| 581KB |
| 格式： |
pdf 共3頁 |
來源： |
招商證券 |
| 評級： |
增持 |
作者： |
鄢凡,曹輝 |
| 下載權限： |
此報告為加密報告 |
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盛美上海自2022年11月18日以來先后發(fā)布第一款前道涂膠顯影Track機和PECVD機臺，均即將發(fā)往國內客戶驗證。公司出貨量不斷突破，兩款新品使得面向全球市場空間翻倍，展望公司長期增長態(tài)勢向好，維持“增持”投資評級。
盛美上海產品出貨量不斷突破，獲得海內外重復訂單。公司起初聚焦單片兆聲波清洗設備，不斷擴展產品業(yè)務，目前形成了IC專用清洗設備（包括單片、槽式、單片槽式組合清洗、背面清洗、邊緣刻蝕清洗、刷洗等）、前道銅互連及先進封裝電鍍設備、先進封裝濕法設備和立式爐管設備等產品。截至2022年11月16日，清洗設備累計出貨從2000提升到3000腔，電鍍設備實現(xiàn)500腔出貨；槽式清洗設備和電鍍設備拿到國內外大廠訂單，開拓全球重量級客戶，獲得美國主要國際半導體制造商SAPS單片清洗設備2臺訂單。
盛美上海發(fā)布前道涂膠顯影Track和PECVD設備，正式進入前道光刻和PECVD領域。1）涂膠顯影Track：公司于2013年發(fā)布第一款涂膠顯影機并取得訂單，于2022年11月18日成功推出12寸前道track機Ultra LITH，適用I-Line、KrF、ArF工藝；該產品具有4個裝載端口、8個涂層室、8個顯影室，未來可擴展到12個涂層室和12個顯影室；產品現(xiàn)階段支持300片/h，未來有望支持400片/h；2）PECVD設備：公司于2022年12月12日正式發(fā)布第一款PECVD設備Ultra Pmax，其配置了自主知識產權的腔體、氣體分配裝置和卡盤設計。該設備采用單腔體模塊化設計，有兩種配置：一種是可以配置一至三腔體模塊，適合極薄膜層或快速工藝步驟；另一種是可以配置四至五腔體模塊，支持厚膜沉積以及更長的工藝時間。以上兩種配置中，每個腔體都安裝有多個加熱卡盤，以優(yōu)化工藝控制并提高產能。
ArF型號Track機即將發(fā)往國內客戶驗證，PECVD設備預計幾周內發(fā)往國內客戶驗證。1）涂膠顯影Track：新品目前主要在內部測試，預計在年底將ArF型號將發(fā)往國內客戶驗證，同時公司將于2023年推出I-Line型號設備并已開始著手KrF設備研發(fā)；2）PECVD設備：新品面向邏輯和存儲端，公司預計將在幾周內向一家國內客戶交付其首臺PECVD設備。
公司涂膠顯影和PECVD新品打開未來成長天花板。2021年全球前道涂膠顯影市場大約37億美元，薄膜沉積設備市場接近200億美元，其中PECVD占比約33%即66億美元，兩款新品使公司面向全球市場空間翻倍增加。
投資建議。公司當前在手訂單飽滿，產能持續(xù)擴充，涂膠顯影Track和PECVD新品打開遠期成長空間，展望未來公司成長動力充沛。我們預計公司2022/23/24年收入為28.2/34.6/43.3億元，對應PS為12.7/10.4/8.3，預計2022/23/24年歸母凈利潤為6.2/6.7/8.2億元，對應PE為57.9/53.8/43.6，維持“增持”投資評級。
風險提示：晶圓廠資本支出不及預期、客戶驗證及導入不及預期、行業(yè)競爭加劇、疫情影響發(fā)貨及收入確認節(jié)奏、廠房建設不及預期的風險。
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