>> 華金證券-半導體設(shè)備行業(yè)快報：浸潤式光刻機進口處處受限，靜待28nm光刻機王者歸來-230803
| 上傳日期： |
2023/8/4 |
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| 299KB |
| 格式： |
pdf 共4頁 |
來源： |
華金證券 |
| 評級： |
領(lǐng)先大市 |
作者： |
孫遠峰,王海維 |
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事件點評
據(jù)21ic電子網(wǎng)援引《新華網(wǎng)》7月31日消息，上海微電子正致力于研發(fā)28nm浸沒式光刻機，預計在2023年年底將國產(chǎn)第一臺SSA/800-10W光刻機設(shè)備交付市場。
一超兩強格局穩(wěn)定，中國浸潤式光刻機進口處處受限。根據(jù)各公司官網(wǎng)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，2022年ASML、Cannon、Nikon光刻機銷量分別為345、176、38臺，ASML光刻機銷量遠超其余兩家之和，為Cannon、Nikon合計銷量1.6倍。從提供光刻機類別層面分析，ASML為EUV光刻機唯一供應(yīng)商，ASML與Nikon均可提供ArFi、ArF光刻機。根據(jù)日本限制條件，在光刻設(shè)備中用于處理晶圓的步進重復式、步進掃描式光刻機設(shè)備（光源波長為193nm以上、且光源波長乘以0.25再除以數(shù)值孔徑得到數(shù)值為45及以下）受到管制，故Nikon NSR（Immersion &MP）平臺光刻機均包含在內(nèi)，型號包括NSR-S635E、S631E及S622D均受到管制，中國已無法從日本進口ArFi光刻機。根據(jù)荷蘭新出口管制條例規(guī)定，ASML生產(chǎn)的最先進浸潤式DUV系統(tǒng)NXT:2000i及后續(xù)NXT:2050i浸潤式光刻機將受到限制。
各細分領(lǐng)域技術(shù)相繼研發(fā)成功，靜待28nm光刻機王者歸來。在光刻機產(chǎn)業(yè)鏈中，國內(nèi)在雙工作臺、光學系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、光源系統(tǒng)方面均有企業(yè)相繼研發(fā)成功。根據(jù)半導體產(chǎn)業(yè)縱橫報道，在雙工件臺方面，華卓精科打破ASML在光刻機工件臺上技術(shù)壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術(shù)公司；在光源方面，科益虹源可自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)高能準分子激光器，填補中國在準分子激光技術(shù)領(lǐng)域空白，目前已完成6kHZ、60w主流ArF光刻機光源制造；在光學鏡頭方面，奧普光學提供鏡頭可做到90納米；在光刻機整機生產(chǎn)方面，上海微電子90nm光刻機已獲得突破，正在攻關(guān)28nm DUV光刻機，仍待交付。
新建晶圓廠+產(chǎn)能擴產(chǎn)+下游需求蓬勃發(fā)展拉動光刻機需求。①從新建晶圓廠層面分析，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，中國大陸晶圓廠建廠速度全球第一，預計至2024年底，合計將建立31座大型晶圓廠，且全部為成熟制程。以中芯國際天津T3集成電路生產(chǎn)線項目為例對成熟制程12寸線設(shè)備數(shù)量需求進行分析，中芯國際天津T3集成電路生產(chǎn)線項目中，將新建12寸晶圓廠房及產(chǎn)線，制程為90nm，新建12寸晶圓規(guī)劃產(chǎn)能為每月1萬片，所需光刻機共8臺，其中深紫外沉浸式涂膠曝光機4臺，深紫外涂膠曝光機3臺，紫外涂膠曝光機1臺；②從晶圓產(chǎn)能層面分析，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2026年全球300mm晶圓廠產(chǎn)能有望提高至960萬片/月；全球半導體制造商預計將從2021年到2025年將200mm晶圓廠產(chǎn)能提高20%，新增13條200mm生產(chǎn)線，產(chǎn)能有望超700萬片/月，帶動晶圓光刻機市場需求蓬勃發(fā)展。③從下游需求層面分析，根據(jù)ASML數(shù)據(jù)，2020年全球制造芯片超過9,530億顆，到2022年，半導體行業(yè)芯片產(chǎn)量超1.11萬億顆，市場規(guī)模達6,180億美元，隨著下游應(yīng)用蓬勃發(fā)展，2025年半導體行業(yè)產(chǎn)值有望超過7,000億美元。
投資建議：建議關(guān)注在光刻機核心技術(shù)領(lǐng)域有所突破，產(chǎn)品直接或間接進入ASML、Nikon、Cannon及上海微電子等供應(yīng)鏈廠商。如福晶科技、茂萊光學、科益虹源(未上市)、蘇大維格等。
風險提示：宏觀經(jīng)濟形勢變化風險致使產(chǎn)業(yè)鏈受到?jīng)_擊；半導體行業(yè)景氣度不及預期；光刻機廠商研發(fā)進度不及預期。
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