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事件點(diǎn)評(píng)
　　2023年5月23日，日本正式出臺(tái)《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》修正版，對(duì)六大類23種尖端半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施出口管制措施。經(jīng)過(guò)兩個(gè)月公告期后，預(yù)計(jì)于7月23日正式施行。根據(jù)新規(guī)，除了向友好國(guó)等42個(gè)國(guó)家和地區(qū)出口，相關(guān)半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備出口至“非白名單”國(guó)家時(shí)，需申請(qǐng)并獲得官方發(fā)布出口許可。中國(guó)、俄羅斯等國(guó)家均屬于受限制造出口目標(biāo)地。
　　日本為向中國(guó)出口半導(dǎo)體設(shè)備份額最多國(guó)家，占比近40%。根據(jù)彭博社數(shù)據(jù)，中國(guó)主要從日本、新加坡、美國(guó)、荷蘭及韓國(guó)等國(guó)家進(jìn)口半導(dǎo)體制造設(shè)備，其中日本向中國(guó)出口半導(dǎo)體制造設(shè)備份額占比為39%，是排名第二的新加坡(17%)的2倍以上，美國(guó)、荷蘭及韓國(guó)占比分別為10%、8%及7%。根據(jù)國(guó)際貿(mào)易中心數(shù)據(jù)，日本半導(dǎo)體設(shè)備出口總額為305億美元，其中對(duì)華出口118億美元，出口額是美國(guó)對(duì)華設(shè)備出口近2倍。
　　管制設(shè)備包括清潔、沉積、光刻和蝕刻等，尼康A(chǔ)rF浸沒式光刻機(jī)均在限制之中。根據(jù)統(tǒng)計(jì)，2022年ASML、Cannon、Nikon光刻機(jī)銷量分別為345、176、38臺(tái)，ASML光刻機(jī)銷量遠(yuǎn)超其余兩家之和，為Cannon、Nikon合計(jì)銷量1.6倍。從提供光刻機(jī)類別層面分析，ASML為EUV光刻機(jī)唯一供應(yīng)商，ASML與Nikon能提供ArFi、ArF光刻機(jī)。在光刻設(shè)備中，用于處理晶圓的步進(jìn)重復(fù)式、步進(jìn)掃描式光刻機(jī)設(shè)備（光源波長(zhǎng)為193納米以上、且光源波長(zhǎng)乘以0.25再除以數(shù)值孔徑得到數(shù)值為45及以下）受到管制。據(jù)此，Nikon NSR（Immersion &MP）平臺(tái)光刻機(jī)均包含在內(nèi)，型號(hào)包括NSR-S635E、S631E及S622D，中國(guó)已無(wú)法從日本進(jìn)口ArFi光刻機(jī)。
　　中國(guó)大陸對(duì)日本光刻、刻蝕及熱處理設(shè)備依賴度較高，各領(lǐng)域進(jìn)口日本設(shè)備占比均超20%。根據(jù)中國(guó)海關(guān)，2022年中國(guó)大陸進(jìn)口步進(jìn)重復(fù)光刻機(jī)金額約14.2億美元，日本占比為28%；CVD/PVD進(jìn)口金額分別為37.2億美元和11億美元，日本占比分別為10.3%和7%；等離子刻蝕設(shè)備進(jìn)口金額37.5億美元，日本占比31%；熱處理進(jìn)口金額17.4億美元，日本占比59%；離子注入機(jī)進(jìn)口金額10.6億美元，日本占比16%。
　　投資建議：考慮到我國(guó)進(jìn)口日本光刻、刻蝕及熱處理等設(shè)備占比較高，此次日本對(duì)六類設(shè)備實(shí)施出口管制，將為部分領(lǐng)域帶來(lái)廣闊進(jìn)口替代空間。建議關(guān)注對(duì)日本設(shè)備依賴程度較高領(lǐng)域中，科研創(chuàng)新能力突出，產(chǎn)品性能出色，供應(yīng)鏈管控能力強(qiáng)龍頭企業(yè)。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：半導(dǎo)體行業(yè)景氣度不及預(yù)期；國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程放緩；產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)度不及預(yù)期；宏觀經(jīng)濟(jì)形勢(shì)變化風(fēng)險(xiǎn)。