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2023年?duì)I收穩(wěn)步增長(zhǎng)，公允價(jià)值變動(dòng)損益等因素影響23年歸母凈利潤(rùn)
　　2023年公司預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)營(yíng)收62.6億元（yoy+32.1%），歸母凈利預(yù)計(jì)17.00-18.50億元（yoy+45.32%-58.15%）；23年非經(jīng)常性損益約6.12億元，同比+2.50-3.62億元，主要系公司23年出售部分持有的拓荊科技股票，產(chǎn)生稅后凈收益約4.06億元；扣非歸母凈利預(yù)計(jì)11.00-12.40億元（yoy+19.64%-34.86%）。參考公司業(yè)績(jī)預(yù)告中刻蝕設(shè)備訂單/收入和非經(jīng)常性損益的增加，我們預(yù)計(jì)公司2023-2025年歸母凈利潤(rùn)分別為17.6/20.2/26.0億元，（前值15.1/19.9/25.6億元）?？杀裙?4年Wind一致預(yù)期PE均值為40倍，考慮公司刻蝕設(shè)備訂單飽滿，LPCVD、ALD等新產(chǎn)品進(jìn)展較快及國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊，給予公司24年45倍PE，目標(biāo)價(jià)146.70元（前值161.70元），維持“增持”評(píng)級(jí)。
　　23年刻蝕設(shè)備收入同比持續(xù)增長(zhǎng)，薄膜沉積業(yè)務(wù)設(shè)備產(chǎn)品開(kāi)始進(jìn)入市場(chǎng)
　　23年公司預(yù)計(jì)新增訂單約83.6億元，較22年新增訂單63.2億元增加約20.4億元，同比+32.3%。1）刻蝕設(shè)備：23年預(yù)計(jì)收入約47.0億元，同比+49.4%，23年預(yù)計(jì)新增訂單約69.5億元，同比+60.1%；2）MOCVD設(shè)備：23年預(yù)計(jì)收入約4.6億元，同比-34.0%，23年預(yù)計(jì)新增訂單約2.6億元，受LED終端市場(chǎng)波動(dòng)影響，同比-72.2%。2023年公司CCP和ICP刻蝕設(shè)備在國(guó)內(nèi)主要客戶芯片生產(chǎn)線上市場(chǎng)占有率不斷提高并不斷收到領(lǐng)先客戶的批量訂單；公司TSV硅通孔刻蝕設(shè)備越來(lái)越多應(yīng)用在先進(jìn)封裝和MEMS器件生產(chǎn)。同時(shí)，公司深度布局薄膜沉積業(yè)務(wù)，已實(shí)現(xiàn)多種LPCVD設(shè)備的研發(fā)交付以及ALD設(shè)備的重大突破，目前已有四款設(shè)備產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)，其中三款設(shè)備已獲得客戶認(rèn)證，開(kāi)始得到重復(fù)性訂單。
　　半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)空間較大，24年公司多產(chǎn)品開(kāi)始投入市場(chǎng)驗(yàn)證
　　隨著美、日、荷對(duì)中國(guó)先進(jìn)半導(dǎo)體制程的出口限制升溫，設(shè)備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)度加速，具有技術(shù)優(yōu)勢(shì)的龍頭設(shè)備公司有望持續(xù)受益。公司新開(kāi)發(fā)的EPI設(shè)備、晶圓邊緣Bevel刻蝕設(shè)備等多個(gè)新產(chǎn)品，將在近期投入市場(chǎng)驗(yàn)證；碳化硅功率器件、氮化鎵功率器件、Micro-LED等器件所需MOCVD設(shè)備取得良好進(jìn)展，2024年將逐步進(jìn)入市場(chǎng)。同時(shí)，公司在南昌約14萬(wàn)平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地正式投入使用、上海臨港約18萬(wàn)平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地部分生產(chǎn)廠房開(kāi)始投入使用，助力公司銷售快速增長(zhǎng)。我們持續(xù)看好公司新型刻蝕技術(shù)研發(fā)和平臺(tái)化布局，預(yù)計(jì)未來(lái)新產(chǎn)品得到市場(chǎng)驗(yàn)證后公司市占率有望進(jìn)一步提升。
　　風(fēng)險(xiǎn)提示：半導(dǎo)體周期性波動(dòng)，新產(chǎn)品研發(fā)不及預(yù)期，國(guó)外技術(shù)管制風(fēng)險(xiǎn)。