>> 中信證券-電子行業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備板塊跟蹤點(diǎn)評：美聯(lián)合日荷加碼設(shè)備限制，倒逼半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速-230131
| 上傳日期： |
2023/1/31 |
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| 962KB |
| 格式： |
pdf 共13頁 |
來源： |
中信證券 |
| 評級： |
強(qiáng)于大市 |
作者： |
徐濤,王子源 |
| 行業(yè)名稱： |
電子 |
| 下載權(quán)限： |
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據(jù)彭博社2023年1月27日報(bào)道，美國與荷蘭和日本達(dá)成協(xié)議，擬限制向中國出口部分先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。目前市場關(guān)注點(diǎn)主要聚焦在DUV光刻機(jī)能否對華銷售，我們認(rèn)為不必過度擔(dān)心，我們預(yù)計(jì)浸沒式DUV光刻機(jī)完全對華禁售概率較小。短期來看，建議關(guān)注日本及荷蘭廠商占有領(lǐng)先地位的、并能夠?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)替代的設(shè)備/材料環(huán)節(jié)；長期來看，建議關(guān)注受益國產(chǎn)替代加速的設(shè)備、零部件、材料、高端芯片等各環(huán)節(jié)的相關(guān)標(biāo)的。
▍美方與日本、荷蘭達(dá)成協(xié)議，將對華半導(dǎo)體出口管制外擴(kuò)。據(jù)彭博社2023年1月27日報(bào)道，在上周五于華盛頓結(jié)束的會談中，美國政府與荷蘭和日本達(dá)成協(xié)議，擬限制向中國出口一些先進(jìn)的芯片制造設(shè)備，該協(xié)議并未官宣，荷蘭、日本政府仍需敲定各自的最終法律安排，實(shí)際落實(shí)計(jì)劃可能需要數(shù)月時間。荷蘭ASML、日本尼康和佳能是全球光刻機(jī)領(lǐng)域主要玩家，此外日本還擁有東京電子等重要設(shè)備企業(yè)，美、日、荷設(shè)備廠商占全球市場前五名，合計(jì)占比超過70%，美、日、荷代表了全球半導(dǎo)體設(shè)備的主流供應(yīng)地區(qū)。
▍我們預(yù)計(jì)日荷的限制范圍大概率不會超出美國2022年10月的對華出口限制的先進(jìn)制程范圍。我們于2022年12月13日外發(fā)的《產(chǎn)業(yè)鏈安全再平衡系列之（一）：半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)鏈格局或面臨重塑，機(jī)會在哪里？》中已提示，美方正謀求與日本、荷蘭達(dá)成協(xié)議，共同限制對華出口先進(jìn)芯片制造設(shè)備。2021年美國人工智能國家安全委員會（“NSCAI”）向美國國會提供的756頁報(bào)告中提到，美國要想在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)保持全球領(lǐng)先地位，應(yīng)設(shè)法妨礙中國進(jìn)口光刻機(jī)等尖端芯片生產(chǎn)設(shè)備，并考慮與荷蘭和日本“協(xié)調(diào)”制定“推定拒絕”的政策，以將中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)限制在落后于美國兩代的程度。近期舉動在前期美方報(bào)告中已有跡可循，實(shí)質(zhì)是將前期計(jì)劃逐步落實(shí)，同時我們預(yù)計(jì)日荷的限制范圍大概率不會超出美國2022年10月7日的對華出口限制的先進(jìn)制程范圍（16/14nm及以下邏輯、128層及以上NAND存儲、18nm及以下DRAM存儲芯片）。
▍我們預(yù)計(jì)浸沒式DUV光刻機(jī)完全對華禁售可能性較小。目前市場關(guān)注點(diǎn)主要聚焦DUV光刻機(jī)能否對華銷售，我們認(rèn)為不必過度擔(dān)心，DUV光刻機(jī)包括浸沒式DUV（ArFi）和干式DUV（ArF）兩類，浸沒式DUV一般適用于45nm～7nm節(jié)點(diǎn)，其中14nm、7nm通常需要多重曝光。從企業(yè)在商言商角度出發(fā)，我們認(rèn)為成熟制程仍有產(chǎn)業(yè)鏈充分合作的基礎(chǔ)，對美歐日而言，繼續(xù)銷售部分設(shè)備，同時利用中國大陸成熟制程降低芯片成本仍是最優(yōu)選擇。如有必要針對14nm和7nm做出限制，ASML未來或采取硬件降級或軟件鎖定方式，限制部分機(jī)型的特性，例如降低光刻機(jī)套刻精度，以限制多重曝光的實(shí)現(xiàn)。至于全球最先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機(jī)，此前一直對華禁售，中芯國際（中芯南方）曾向ASML發(fā)出一臺采購單，但后來受美國政府干預(yù)，未得到荷蘭海關(guān)放行。因此我們認(rèn)為本次限制對于EUV光刻機(jī)而言不存在增量影響。
▍荷蘭和日本在光刻機(jī)領(lǐng)域占有統(tǒng)治地位，目前光刻機(jī)國產(chǎn)化率約為1.1%，對于高端浸沒式DUV（ArFi）和EUV設(shè)備還尚未國產(chǎn)替代。目前浸沒式DUV（ArFi）光刻機(jī)全球主要廠商是荷蘭ASML和日本尼康，尼康的NSR-S631E/NSR-S621D分別對標(biāo)ASML的NXT2000i/ NXT1950i，ASML對比尼康在設(shè)計(jì)合理度、生產(chǎn)速度、良品率上領(lǐng)先。目前國內(nèi)僅有上海微電子可以量產(chǎn)光刻機(jī)，其目前最先進(jìn)的產(chǎn)品為ArFDry光刻機(jī)，可支持90nm制程，同時其在研的28nmArFi光刻機(jī)SSA800/10有望在2023年實(shí)現(xiàn)交付。
▍風(fēng)險因素：全球宏觀經(jīng)濟(jì)低迷風(fēng)險，下游需求不及預(yù)期，創(chuàng)新不及預(yù)期，國際產(chǎn)業(yè)環(huán)境變化和貿(mào)易摩擦加劇風(fēng)險。
▍投資策略：短期關(guān)注日本半導(dǎo)體廠商國產(chǎn)替代，長期關(guān)注國產(chǎn)化受益標(biāo)的。短期來看，建議關(guān)注日本廠商占有領(lǐng)先地位的、并能夠?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)替代的設(shè)備/材料環(huán)節(jié)，如涂膠顯影設(shè)備、測試設(shè)備、擴(kuò)散/熱處理設(shè)備、光刻膠、拋光液等。長期來看，限制條件的擴(kuò)大將倒逼產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化進(jìn)程的加速，建議關(guān)注受益國產(chǎn)替代加速的設(shè)備、零部件、材料、高端芯片等各環(huán)節(jié)的相關(guān)標(biāo)的。行業(yè)周期有望2023年觸底反彈，板塊估值目前位于歷史低位，我們認(rèn)為當(dāng)前是較好配置時機(jī)。關(guān)注“卡脖子”環(huán)節(jié)國產(chǎn)化歷史機(jī)遇，特別是半導(dǎo)體制造-設(shè)備-零部件自主+高端芯片國產(chǎn)化，如芯源微、北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海、富創(chuàng)精密、龍芯中科、中芯國際、華虹半導(dǎo)體、華海清科、拓荊科技、至純科技等。
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